特許

J-GLOBAL ID：201003021606812764

ゼロ転移温度周辺の熱膨張係数に応じて温度の上昇に対する傾きの符号が異なる材料で構成されたミラーを備えたEUV投影レンズ

発明者： ディンガー ウド ,  アイゼルト フランク ,  ケーラー ステファン ,  オクセ アンドレアス ,  ゼリナー ヨハネス ,  ロビッシュ マルチン ,  ラウファー チモ
出願人/特許権者： カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー
代理人 (4件)： 熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  西島 孝喜 ,  須田 洋之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-167456
公開番号（公開出願番号）：特開2010-251801
出願日： 2010年07月26日
公開日（公表日）： 2010年11月04日
要約：

【課題】本発明は、光軸(5)との関係で正確な位置に配置された複数のミラー(M1,M2,M3,M4,M5,M6)を備えた、短波長、特に波長λ<157nmのための投影レンズ(1)に関する。【解決手段】ミラー(M1,M2,M3,M4,M5,M6)は、多層膜を備えている。熱膨張係数のゼロ転移温度周辺の温度に応じて、熱膨張係数の傾き、具体的にはその値の符号が異なる少なくとも2つの異なるミラー材料が用いられる。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

それぞれが基板材料から作られた1つの基板を含む複数の多層膜を有するミラー(M1、M2、M3、M4、M5、M6)を有する、EUVリソグラフィのための投影レンズであって、 前記複数のミラーの基板材料はガラスセラミック材料又は非晶質チタンケイ酸塩ガラスのいずれかであり、さらに温度の関数としての基板材料の熱膨張係数の傾きの符号がゼロ交差の領域において異なるという態様で、前記複数のミラーの基板材料が少なくとも2つのミラーにおいて異なっており、さらに、上記異なる基板材料からなる少なくとも2つのミラーが、局所的及び大域的な温度上昇の結果として生じる投影レンズの像の誤差が上記複数のミラーが同じ材料で作られた場合に生じる像の誤差よりも小さくなるように、投影レンズに配置されており、 結像の方向に連続して配置された6個のミラー(M1、M2、M3、M4、M5、M6)が物体を像面に表示し、ここで、ガラスセラミック材料(-)が前記温度の関数としての基板材料の熱膨張係数の負の傾きを示す基板材料であり、非晶質チタンケイ酸塩ガラス(+)が前記温度の関数としての基板材料の熱膨張係数の正の傾きを示す基板材料であって、それぞれに前記基板材料のいずれかが割り当てられた6個のミラー(M1、M2、M3、M4、M5、M6)の配置が、ASTが小さくなる順番に並べたときに小さい方から選んだ組み合わせとして、[(+,+,-,-,-,-); (-,-,+,+,+,+); (+,-,-,-,-,-); (-,+,+,+,+,+); (+,+,-,-,-,+); (-,-,+,+,+,-); (+,-,-,-,-,+); (-,+,+,+,+,-); (+,+,+,+,+,-); (-,-,-,-,-,+); (+,-,+,+,+,-); (-,+,-,-,-,+); (+,-,+,+,+,+); (-,+,-,-,-,-); (+,+,-,+,+,-); (-,-,+,-,-,+); (+,-,-,+,+,-); (-,+,+,-,-,+); (+,+,+,+,-,-); (-,-,-,-,+,+); (+,-,+,+,-,-); (-,+,-,-,+,+); (+,+,-,+,+,+); (-,-,+,-,-,-); (+,-,-,+,+,+); (-,+,+,-,-,-); (+,+,+,+,-,+); (-,-,-,-,+,-); (+,-,+,+,-,+); (-,+,-,-,+,-); (+,+,-,+,-,-); (-,-,+,-,+,+); (+,-,-,+,-,-); (-,+,+,-,+,+); (+,+,-,+,-,-); (-,-,+,-,+,-); (+,-,-,+,-,+); (-,+,+,-,+,-)]というグループの中の基板材料の組み合わせの1つとなるように配置されていることを特徴とする、EUVリソグラフィのための投影レンズ。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  G02B 5/10 ,  G02B 17/08 ,  G02B 13/18 ,  G02B 13/24 ,  G02B 13/16

FI (7件)：

H01L21/30 531A ,  G02B5/10 ,  G02B5/10 C ,  G02B17/08 Z ,  G02B13/18 ,  G02B13/24 ,  G02B13/16

Fターム (15件)：

2H042DA08 ,  2H042DA12 ,  2H042DB02 ,  2H042DB06 ,  2H042DD05 ,  2H042DE00 ,  2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087NA08 ,  2H087TA01 ,  2H087TA02 ,  2H087TA06 ,  5F046GA14 ,  5F046GB01 ,  5F046GB09

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-166319   出願人：株式会社ニコン
• 6枚の反射鏡を用いたマイクロリソグラフィ用の投影光学系
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-232558   出願人：カールツァイスシュティフトゥングトレイディングアズカールツァイス
• リトグラフ投影装置、装置の製造方法および光学要素を製造する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-382893   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ