特許
J-GLOBAL ID：201003022633230633

評価方法、露光装置およびデバイス製造方法

発明者：
塩出 吉宏

塩出 吉宏 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-320215
公開番号（公開出願番号）：特開2010-147109
出願日： 2008年12月16日
公開日（公表日）： 2010年07月01日
要約：
【課題】光学系の光学特性をより正確に計測する技術を提供する。【解決手段】テストパターンを有するテストマスクをマスク保持部によって保持して光学系の物体面に配置し、前記光学系の像面に形成される前記テストパターンの像の位置を計測し、その計測結果を処理することによって前記光学系の光学特性を決定する方法において、前記テストマスクの変形量を計測し、前記像の位置の計測結果を処理して決定されうる前記光学系の光学特性を前記変形量に基づいて補正する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
テストパターンを有するテストマスクをマスク保持部によって保持して光学系の物体面に配置し、前記光学系の像面に形成される前記テストパターンの像の位置を計測し、その計測結果を処理することによって前記光学系の光学特性を決定する評価方法であって、 前記テストマスクの変形量を計測し、前記像の位置の計測結果を処理して決定されうる前記光学系の光学特性を前記変形量に基づいて補正する補正工程を含む、 ことを特徴とする評価方法。
IPC (6件)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 ,  G01B 11/00 ,  G01B 11/16 ,  G01M 11/02
FI (7件)：
H01L21/30 516A ,  H01L21/30 502P ,  G03F1/08 S ,  G03F7/20 521 ,  G01B11/00 H ,  G01B11/16 H ,  G01M11/02 B
Fターム (32件)：
2F065AA03 ,  2F065AA20 ,  2F065AA65 ,  2F065BB02 ,  2F065CC18 ,  2F065CC20 ,  2F065FF42 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ09 ,  2F065LL30 ,  2F065PP02 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ00 ,  2F065QQ18 ,  2G086HH06 ,  2H095BA01 ,  2H095BC09 ,  2H095BE06 ,  2H095BE08 ,  5F046AA25 ,  5F046BA03 ,  5F046CB17 ,  5F046CB25 ,  5F046DA06 ,  5F046DA13 ,  5F046DB01 ,  5F046DB05 ,  5F046DB10 ,  5F046DC04 ,  5F046DC12 ,  5F046EB02 ,  5F046FC04
引用特許：
出願人引用 (5件)
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