特許
J-GLOBAL ID:201003025700172260

低温炭化水素SCR

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 吉武 賢次 ,  中村 行孝 ,  紺野 昭男 ,  横田 修孝 ,  堅田 健史
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-526180
公開番号(公開出願番号):特表2010-502418
出願日: 2007年01月12日
公開日(公表日): 2010年01月28日
要約:
流動燃焼排気ガス中の窒素酸化物(NOx)をN2に還元する方法であって、50°C未満の触媒床温度で遷移金属/ゼオライト触媒により一酸化窒素を二酸化窒素に酸化し、そしてNOxを、150°C未満の触媒床温度で、炭化水素(HC)還元剤を用いて前記触媒で還元することを含む、方法。
請求項(抜粋):
流動燃焼排気ガス中の窒素酸化物(NOx)をN2に還元する方法であって、 50°C未満の触媒床温度で、遷移金属/ゼオライト触媒により一酸化窒素(NO)を二酸化窒素(NO2)に酸化し、及び 150°C未満の触媒床温度で、炭化水素(HC)還元剤を用いて前記触媒でNOxを還元することを含んでなる、方法。
IPC (5件):
B01D 53/94 ,  B01J 29/76 ,  F01N 3/08 ,  F01N 3/28 ,  F01N 3/10
FI (7件):
B01D53/36 102H ,  B01J29/76 A ,  B01D53/36 102D ,  F01N3/08 B ,  F01N3/08 A ,  F01N3/28 301E ,  F01N3/10 A
Fターム (79件):
3G091AA18 ,  3G091AB02 ,  3G091AB04 ,  3G091AB10 ,  3G091AB15 ,  3G091BA14 ,  3G091CA16 ,  3G091CA23 ,  3G091CA26 ,  3G091EA37 ,  3G091FA06 ,  3G091GB09W ,  3G091HA47 ,  4D048AA05 ,  4D048AA06 ,  4D048AB01 ,  4D048AB02 ,  4D048AB06 ,  4D048AC02 ,  4D048AC04 ,  4D048AC10 ,  4D048BA11X ,  4D048BA19Y ,  4D048BA25Y ,  4D048BA28Y ,  4D048BA35X ,  4D048BA36X ,  4D048BA37Y ,  4D048BA50X ,  4D048BB02 ,  4D048BC01 ,  4D048BC04 ,  4D048CC21 ,  4D048CC32 ,  4D048CC47 ,  4D048CD01 ,  4D048CD08 ,  4D048DA01 ,  4D048DA03 ,  4D048DA08 ,  4D048DA09 ,  4D048DA10 ,  4D048DA13 ,  4D048EA04 ,  4D048EA07 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA07A ,  4G169BA07B ,  4G169BB04B ,  4G169BC29A ,  4G169BC29B ,  4G169BC31A ,  4G169BC31B ,  4G169BC43A ,  4G169BC58A ,  4G169BC62A ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BC67A ,  4G169CA03 ,  4G169CA08 ,  4G169CA13 ,  4G169CD05 ,  4G169DA06 ,  4G169EA02Y ,  4G169EA18 ,  4G169EE05 ,  4G169FA02 ,  4G169FA03 ,  4G169FB13 ,  4G169ZA02A ,  4G169ZA03A ,  4G169ZA04A ,  4G169ZA08A ,  4G169ZA11A ,  4G169ZA19A ,  4G169ZA19B ,  4G169ZA32A
引用特許:
審査官引用 (7件)
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