特許
J-GLOBAL ID:201003025700172260
低温炭化水素SCR
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
吉武 賢次
, 中村 行孝
, 紺野 昭男
, 横田 修孝
, 堅田 健史
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-526180
公開番号(公開出願番号):特表2010-502418
出願日: 2007年01月12日
公開日(公表日): 2010年01月28日
要約:
流動燃焼排気ガス中の窒素酸化物(NOx)をN2に還元する方法であって、50°C未満の触媒床温度で遷移金属/ゼオライト触媒により一酸化窒素を二酸化窒素に酸化し、そしてNOxを、150°C未満の触媒床温度で、炭化水素(HC)還元剤を用いて前記触媒で還元することを含む、方法。
請求項(抜粋):
流動燃焼排気ガス中の窒素酸化物(NOx)をN2に還元する方法であって、
50°C未満の触媒床温度で、遷移金属/ゼオライト触媒により一酸化窒素(NO)を二酸化窒素(NO2)に酸化し、及び
150°C未満の触媒床温度で、炭化水素(HC)還元剤を用いて前記触媒でNOxを還元することを含んでなる、方法。
IPC (5件):
B01D 53/94
, B01J 29/76
, F01N 3/08
, F01N 3/28
, F01N 3/10
FI (7件):
B01D53/36 102H
, B01J29/76 A
, B01D53/36 102D
, F01N3/08 B
, F01N3/08 A
, F01N3/28 301E
, F01N3/10 A
Fターム (79件):
3G091AA18
, 3G091AB02
, 3G091AB04
, 3G091AB10
, 3G091AB15
, 3G091BA14
, 3G091CA16
, 3G091CA23
, 3G091CA26
, 3G091EA37
, 3G091FA06
, 3G091GB09W
, 3G091HA47
, 4D048AA05
, 4D048AA06
, 4D048AB01
, 4D048AB02
, 4D048AB06
, 4D048AC02
, 4D048AC04
, 4D048AC10
, 4D048BA11X
, 4D048BA19Y
, 4D048BA25Y
, 4D048BA28Y
, 4D048BA35X
, 4D048BA36X
, 4D048BA37Y
, 4D048BA50X
, 4D048BB02
, 4D048BC01
, 4D048BC04
, 4D048CC21
, 4D048CC32
, 4D048CC47
, 4D048CD01
, 4D048CD08
, 4D048DA01
, 4D048DA03
, 4D048DA08
, 4D048DA09
, 4D048DA10
, 4D048DA13
, 4D048EA04
, 4D048EA07
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BA07A
, 4G169BA07B
, 4G169BB04B
, 4G169BC29A
, 4G169BC29B
, 4G169BC31A
, 4G169BC31B
, 4G169BC43A
, 4G169BC58A
, 4G169BC62A
, 4G169BC66A
, 4G169BC66B
, 4G169BC67A
, 4G169CA03
, 4G169CA08
, 4G169CA13
, 4G169CD05
, 4G169DA06
, 4G169EA02Y
, 4G169EA18
, 4G169EE05
, 4G169FA02
, 4G169FA03
, 4G169FB13
, 4G169ZA02A
, 4G169ZA03A
, 4G169ZA04A
, 4G169ZA08A
, 4G169ZA11A
, 4G169ZA19A
, 4G169ZA19B
, 4G169ZA32A
引用特許:
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