特許
J-GLOBAL ID:201003026102061190
シンチレータプレート
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-225954
公開番号(公開出願番号):特開2010-060414
出願日: 2008年09月03日
公開日(公表日): 2010年03月18日
要約:
【課題】本発明の目的は、鮮鋭性に優れかつ基材との接着性に優れるシンチレータ層を有するシンチレータプレートを提供することにある。【解決手段】基材上に蒸着結晶からなるシンチレータ層を有するシンチレータプレートにおいて、該基材の該シンチレータ層と接触する接触面の中心線平均粗さ(Ra)が、0.001≦Ra≦0.1μmであり、該接触面の最大粗さ(Rt)と該Raが、5≦Rt/Ra≦150である関係を有することを特徴とするシンチレータプレート。【選択図】なし
請求項(抜粋):
基材上に蒸着結晶からなるシンチレータ層を有するシンチレータプレートにおいて、該基材の該シンチレータ層と接触する接触面の中心線平均粗さ(Ra)が、0.001≦Ra≦0.1μmであり、該接触面の最大粗さ(Rt)と該Raが、5≦Rt/Ra≦150である関係を有することを特徴とするシンチレータプレート。
IPC (3件):
G21K 4/00
, C09K 11/61
, C09K 11/00
FI (3件):
G21K4/00 A
, C09K11/61
, C09K11/00 E
Fターム (17件):
2G083AA02
, 2G083AA08
, 2G083CC03
, 2G083CC04
, 2G083DD02
, 2G083DD12
, 2G083EE02
, 2G083EE03
, 2G083EE07
, 2G088FF02
, 2G088GG10
, 4H001CA02
, 4H001CA08
, 4H001CF01
, 4H001XA53
, 4H001XA55
, 4H001YA81
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
特開昭63-215987号公報
-
放射線像燐光体又はシンチレータパネル
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-108591
出願人:アグファ・ゲヴェルト・ナームロゼ・ベンノートチャップ
審査官引用 (3件)
前のページに戻る