特許
J-GLOBAL ID:201003026918602734

シリコンリッチ酸化物を含むナノワイヤーおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 八田国際特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-089485
公開番号(公開出願番号):特開2010-037184
出願日: 2009年04月01日
公開日(公表日): 2010年02月18日
要約:
【課題】優れた導電性および光特性を有するナノワイヤーを提供する。【解決手段】コア部とシェル部とからなるシリコンリッチ酸化物を含むナノワイヤーであって、コア部は、結晶性または非晶性のシリコンリッチ酸化物を含み、前記シェル部は、シリカを含む。また、ナノワイヤーの縦軸に沿って、コア部は一列に整列した複数の金属(金、ニッケル、鉄、銀、アルミニウムおよびパラジウムからなる群より選択される少なくとも1種の金属)ナノドットを含み、シェル部はシリコン量子ドットを含む。また、シリコン基板上に金属触媒をコーティングする工程、チャンバーまたはマイクロチャンバーを準備する工程、および前記チャンバーまたは前記マイクロチャンバー内に気体を注入しながら加熱して、前記シリコン基板から拡散または気化したナノワイヤー源を用いてナノワイヤーを形成させる工程、を含む。【選択図】図2a
請求項(抜粋):
シリコンリッチ酸化物を含むナノワイヤー。
IPC (7件):
C01B 33/00 ,  B82B 1/00 ,  B82B 3/00 ,  H01L 29/06 ,  H01L 33/34 ,  H01L 31/10 ,  H01L 31/04
FI (8件):
C01B33/00 ,  B82B1/00 ,  B82B3/00 ,  H01L29/06 601N ,  H01L29/06 601D ,  H01L33/00 188 ,  H01L31/10 Z ,  H01L31/04 A
Fターム (25件):
4G072AA38 ,  4G072BB04 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH01 ,  4G072NN18 ,  4G072UU02 ,  4G072UU03 ,  5F041AA03 ,  5F041CA21 ,  5F041CA33 ,  5F041CA54 ,  5F041CA67 ,  5F041CB36 ,  5F049MB02 ,  5F049NA01 ,  5F049PA01 ,  5F051AA01 ,  5F051CB01 ,  5F051CB30 ,  5F051GA04 ,  5F151AA01 ,  5F151CB01 ,  5F151CB30 ,  5F151GA04
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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