特許
J-GLOBAL ID:201003027509242668

磁場形成装置及びこれを用いた粒子加速器

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 石田 喜樹 ,  園田 清隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-055556
公開番号(公開出願番号):特開2010-212031
出願日: 2009年03月09日
公開日(公表日): 2010年09月24日
要約:
【課題】小型であり設置コストや運用コストが低廉でありながら、重粒子につきがん治療等に利用可能なエネルギーまで加速が可能となるような高磁場並びに磁場分布を形成することができ、エネルギーの増大に伴う相対論効果のための質量増加に対応するための径方向の磁気勾配を有する高磁場並びにビーム(放射線)収束のための周方向磁場の強弱を形成することができる磁場形成装置を提供する。【解決手段】酸化物超電導導体を巻いて成る扇形形状のコイル若しくは扇形形状の酸化物超電導バルク体が複数周方向に並べられたコイル群あるいは超電導バルク体群を、互いに向き合った状態で2組配置する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
酸化物超電導導体を巻いて成る扇形形状のコイルが複数周方向に並べられたコイル群を、互いに向き合った状態で2組備えている ことを特徴とする磁場形成装置。
IPC (4件):
H05H 7/04 ,  H05H 13/00 ,  H01F 6/00 ,  A61N 5/10
FI (4件):
H05H7/04 ,  H05H13/00 ,  H01F7/22 C ,  A61N5/10 H
Fターム (10件):
2G085AA11 ,  2G085BC02 ,  2G085BC04 ,  2G085BC18 ,  2G085EA01 ,  2G085EA07 ,  4C082AA01 ,  4C082AC04 ,  4C082AE01 ,  4C082AG41
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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