特許

J-GLOBAL ID：201003029011116595

アレーン系化合物の製造方法及びアレーン系化合物

発明者： 西久保 忠臣 ,  工藤 宏人 ,  新名 伸光 ,  下川 努 ,  甲斐 敏之 ,  丸山 研
出願人/特許権者： JSR株式会社 ,  学校法人神奈川大学
代理人 (5件)： 渡邉 一平 ,  木川 幸治 ,  菅野 重慶 ,  佐藤 博幸 ,  小池 成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-200930
公開番号（公開出願番号）：特開2010-159244
出願日： 2009年08月31日
公開日（公表日）： 2010年07月22日
要約：

【課題】EB(電子線)等に有効に感応する化学増幅型のポジ型レジスト膜を成膜可能な感放射線性組成物に含まれる基材成分の原料として有用なアレーン系化合物の製造方法を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で表される化合物と、下記一般式(2)で表される化合物と、を縮合反応させる縮合反応工程を有するアレーン系化合物の製造方法である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される化合物と、下記一般式(2)で表される化合物と、を縮合反応させる縮合反応工程を有するアレーン系化合物の製造方法。

IPC (3件)：

C07C 41/30 ,  C07C 43/205 ,  C07C 43/23

FI (3件)：

C07C41/30 ,  C07C43/205 A ,  C07C43/23 A

Fターム (9件)：

4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AC25 ,  4H006BA66 ,  4H006BB12 ,  4H006GP03 ,  4H006GP12 ,  4H039CA19 ,  4H039CL25

引用特許：

出願人引用 (5件)

• カリックスアレーン系誘導体及びそれを含有する組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-192502   出願人：JSR株式会社, 学校法人神奈川大学
• カリックスアレーン系化合物、その製造方法、その中間体及びその組成物
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2005001717   出願人：JSR株式会社, 学校法人神奈川大学
• 環状化合物及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-037823   出願人：JSR株式会社
• レゾルシノール誘導体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-210723   出願人：JSR株式会社
• 化合物及び感放射線性組成物
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2008063653   出願人：JSR株式会社

審査官引用 (4件)

• カリックスアレーン系化合物、その製造方法、その中間体及びその組成物
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2005001717   出願人：JSR株式会社, 学校法人神奈川大学
• カリックスアレーン系誘導体及びそれを含有する組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-192502   出願人：JSR株式会社, 学校法人神奈川大学
• 環状化合物及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-037823   出願人：JSR株式会社
• レゾルシノール誘導体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-210723   出願人：JSR株式会社