特許
J-GLOBAL ID:201003029024626649

マスク上部の両側に凹部を有するメンテナンスフリーレスピレータ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 山崎 宏 ,  田中 光雄 ,  大畠 康
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-506355
公開番号(公開出願番号):特表2010-525875
出願日: 2008年03月10日
公開日(公表日): 2010年07月29日
要約:
マスクハーネスとマスク本体11とを含む、メンテナンスフリーレスピレータ10。マスク本体11は、少なくとも1層のフィルタ材56を有し、また上側区分34を含む外縁32を有する。上側区分34は、マスク本体の上面図を見たときに、それぞれ中央面40の第一面及び第二面に位置する第一凹区分36及び第二凹区分38を含む。この構成のメンテナンスフリーレスピレータ10は、着用が快適であり、特に着用者の両目の下の部分において着用者の顔にぴったりフィットすることができ、同時に、さまざまな保護眼鏡との共用適合性が改善され得る。
請求項(抜粋):
(a)マスクハーネスと、 (b)少なくとも1層のフィルタ材を含むマスク本体であって、マスク本体の上面図を見たときに、それぞれ中央面の第一面及び第二面に位置する第一凹区分及び第二凹区分を含む上側区分を含む外縁を有するマスク本体と を含む、メンテナンスフリーレスピレータ。
IPC (2件):
A62B 18/02 ,  A61M 16/06
FI (2件):
A62B18/02 C ,  A61M16/06 A
Fターム (11件):
2E185AA07 ,  2E185BA02 ,  2E185BA04 ,  2E185BA10 ,  2E185BA17 ,  2E185CA03 ,  2E185CB07 ,  2E185CB13 ,  2E185CB16 ,  2E185CC33 ,  2E185CC34
引用特許:
審査官引用 (4件)
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