光酸発生剤、共重合体、化学増幅型レジスト組成物、および化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：名古屋国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-083424
公開番号（公開出願番号）：特開2010-132852
出願日： 2009年03月30日
公開日（公表日）： 2010年06月17日
要約：

【課題】光酸発生剤、この光酸発生剤を含む共重合体、この共重合体を含む化学増幅型レジスト組成物およびこの化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】共重合体の主鎖には光酸発生剤が連結している。これにより、光酸発生剤をレジスト膜内に均一に分散させることができ、レジストパターンのラインエッジ照度特性などを向上させることができる。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

下記化学式(1)で表されることを特徴とする光酸発生剤。

IPC (6件)：

C09K 3/00 , C08F 246/00 , C08F 20/38 , G03F 7/004 , G03F 7/039 , H01L 21/027

FI (6件)：

C09K3/00 K , C08F246/00 , C08F20/38 , G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (47件)：

2H125AF15P , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF33P , 2H125AF35P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AH13 , 2H125AH14 , 2H125AH15 , 2H125AH17 , 2H125AJ13Y , 2H125AJ14X , 2H125AJ14Y , 2H125AJ23Y , 2H125AJ55Y , 2H125AJ64Y , 2H125AJ65X , 2H125AJ65Y , 2H125AJ67X , 2H125AJ67Y , 2H125AJ69X , 2H125AJ69Y , 2H125AJ88Y , 2H125AN39P , 2H125AN67P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100AL08T , 4J100AR11P , 4J100BA03P , 4J100BA03S , 4J100BA10T , 4J100BA12R , 4J100BA15P , 4J100BA50T , 4J100BC03Q , 4J100BC09Q , 4J100BC09S , 4J100BC43T , 4J100BC53R

引用特許：

審査官引用 (1件)

新規スルホン酸塩及びその誘導体、光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-093303 出願人：信越化学工業株式会社

前のページに戻る