特許
J-GLOBAL ID：201003031604114593
重合開始剤、それを用いた高分子修飾材料の製造方法、および高分子修飾材料を含む成型体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長濱 範明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-183595
公開番号（公開出願番号）：特開2010-024263
出願日： 2008年07月15日
公開日（公表日）： 2010年02月04日
要約：
【課題】シリカや炭素材料などの基材の表面に高密度で高分子鎖をグラフトすることができ、且つ前記基材が有する特性を備える高分子修飾材料を得ることができる高分子修飾材料の製造方法を提供すること。【解決手段】表面に求核性官能基を有する基材と、下記式(1): X1-CH2-Ar-(Y1)n[式(1)中、X1はハロゲン原子を表し、Arは芳香族環を表し、Y1は重合開始能を備える官能基を含有する基を表し、nは1〜3の整数である。]で表されるハロゲン化メチル芳香族化合物誘導体を含む重合開始剤とを反応させて前記基材の表面に前記重合開始剤を結合せしめる工程と、 表面に前記重合開始剤が結合した前記基材とラジカル重合性モノマーとを反応させて前記基材の表面に前記ラジカル重合性モノマーをグラフト重合せしめる工程と、を含むことを特徴とする高分子修飾材料の製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記式(1):
X1-CH2-Ar-(Y1)n (1)
[式(1)中、X1はハロゲン原子を表し、Arは芳香族環を表し、Y1は重合開始能を備える官能基を含有する基を表し、nは1〜3の整数である。]
で表されるハロゲン化メチル芳香族化合物誘導体を含むことを特徴とする重合開始剤。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (22件)：
4J015EA06
, 4J026AC00
, 4J026BA02
, 4J026BA03
, 4J026BA05
, 4J026BA25
, 4J026BA27
, 4J026BA34
, 4J026BA36
, 4J026BA45
, 4J026BA46
, 4J026BA47
, 4J026BB01
, 4J026CA06
, 4J026DB02
, 4J026DB09
, 4J026DB11
, 4J026DB40
, 4J026EA05
, 4J026FA03
, 4J026FA07
, 4J026GA02
出願人引用 (5件)
-
グラフト表面固体とその製造方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平10-065684
出願人：科学技術振興事業団
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固形潤滑材
公報種別：公開公報
出願番号：特願2005-140179
出願人：チッソ株式会社, 福田猛
-
パターン形成方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2005-082699
出願人：富士写真フイルム株式会社
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審査官引用 (3件)
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