特許
J-GLOBAL ID：200903079048163352

表面グラフト材料およびそれを用いたグラフトパターン形成方法

発明者：
川村 浩一

川村 浩一 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-081482
公開番号（公開出願番号）：特開2005-264078
出願日： 2004年03月19日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：
【課題】 高解像度ポリマーパターンを形成しうるパターン形成材料として有用な表面グラフト材料及び、それを用いた、高解像度グラフトポリマーパターンを形成しうるグラフトパターン形成方法を提供する。【解決手段】 基材表面に共有結合により片末端で直接結合してなる表面グラフトポリマー鎖を有する基材であって、該表面グラフトポリマー鎖が、光開裂しうる部位を介して基材表面と共有結合してなることを特徴とする。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
基材表面に共有結合により片末端で直接結合してなる表面グラフトポリマー鎖を有する基材であって、該表面グラフトポリマー鎖が、光開裂しうる部位を介して基材表面と共有結合してなることを特徴とする表面グラフト材料。
IPC (3件)：
C08F292/00 ,  C08J7/16 ,  G03F7/00
FI (3件)：
C08F292/00 ,  C08J7/16 ,  G03F7/00 503
Fターム (22件)：
2H096AA06 ,  2H096BA01 ,  2H096EA02 ,  4F073AA32 ,  4F073BA24 ,  4F073BB01 ,  4F073FA03 ,  4F073FA04 ,  4J026BA05 ,  4J026BA16 ,  4J026BA24 ,  4J026BA25 ,  4J026BA28 ,  4J026BA29 ,  4J026BA30 ,  4J026BA32 ,  4J026BB01 ,  4J026CA09 ,  4J026DB06 ,  4J026EA02 ,  4J026FA05 ,  4J026GA08
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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