特許

J-GLOBAL ID：201003032827845162

パターン転写用金型の表面処理方法、複製パターン転写用金型の製造方法及び複製パターン転写用金型

発明者： 吉岡 照文 ,  杉山 寿紀
出願人/特許権者： 日立マクセル株式会社
代理人 (1件)： 古部 次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-171024
公開番号（公開出願番号）：特開2010-006010
出願日： 2008年06月30日
公開日（公表日）： 2010年01月14日
要約：

【課題】パターン転写用金型の微細なパターン形状にダメージを与えることなくフッ素化処理し、これを用いた複製パターン転写用金型の製造方法を提供する。【解決手段】微細パターンを有するパターン転写用金型4をフッ化アンモニウム水溶液中に浸漬し表面にフッ化ニッケル層5を形成し、フッ化ニッケル層5の表面に電鋳により第1ニッケルめっき膜6を形成した後、これを剥離し、剥離した電鋳物の表面に電鋳により第2ニッケルめっき膜9を形成した後、これを剥離し微細パターンを有する複製パターン転写用金型10を複製することを特徴とする複製パターン転写用金型の製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

パターン転写用金型の表面処理方法であって、 パターン転写用金型をフッ化アンモニウムを含む処理液中に浸漬し、当該パターン転写用金型の表面をフッ素化する ことを特徴とするパターン転写用金型の表面処理方法。

IPC (2件)：

B29C 59/02 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

B29C59/02 B ,  H01L21/30 502D

Fターム (14件)：

4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AH79 ,  4F209AJ02 ,  4F209AJ07 ,  4F209AJ09 ,  4F209AJ11 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PQ11 ,  4F209PQ20 ,  5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特許2681489号公報
  
• スタンパ表面処理方法および処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-042251   出願人：松下電器産業株式会社