特許
J-GLOBAL ID:201003033307263396

液状スチレン化フェノリック組成物及び液状スチレン化フェノリック組成物を形成する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 特許業務法人浅村特許事務所 ,  浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  亀岡 幹生 ,  安藤 克則 ,  浅野 裕一郎 ,  上村 陽一郎
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-515283
公開番号(公開出願番号):特表2010-532763
出願日: 2008年07月07日
公開日(公表日): 2010年10月14日
要約:
本明細書には、室温で液体である安定性の高いスチレン化フェノリック組成物、並びにこのようなスチレン化フェノリック組成物を含有するポリマー物品及び潤滑油組成物が開示されている。このようなスチレン化フェノリック組成物を形成する方法も開示されており、該方法は、GC総面積で最小70%と定量されるジスチレン化フェノリックを提供し、スチレンと、1種又は複数のフェノリック、例えばフェノール、p-クレゾール及び/又はo-クレゾールの内の少なくとも1つとを、酸触媒、好ましくはスルホン酸触媒の存在下、高温にて反応させることを含み、得られた生成物混合物は、1種又は複数のモノスチレン化フェノリック、1種又は複数のジスチレン化フェノリック及び1種又は複数のトリスチレン化フェノリックを含む。
請求項(抜粋):
(a)ガスクロマトグラフィー総面積で約70〜約98%の量の少なくとも1種のジスチレン化フェノリック、 (b)ガスクロマトグラフィー総面積で1%超の量の少なくとも1種のモノスチレン化フェノリック、及び (c)ガスクロマトグラフィー総面積で1%超の量の少なくとも1種のトリスチレン化フェノリック を含む、液状スチレン化フェノリック組成物。
IPC (7件):
C07C 37/14 ,  C09K 15/08 ,  C08L 101/00 ,  C08K 5/01 ,  C07C 39/15 ,  C10M 129/10 ,  C10M 133/12
FI (7件):
C07C37/14 ,  C09K15/08 ,  C08L101/00 ,  C08K5/01 ,  C07C39/15 ,  C10M129/10 ,  C10M133/12
Fターム (44件):
4H006AA01 ,  4H006AB60 ,  4H006AC23 ,  4H006BA66 ,  4H006FC52 ,  4H006FE13 ,  4H025AA15 ,  4H039CA10 ,  4H039CF90 ,  4H104BB05C ,  4H104BE07C ,  4H104LA04 ,  4H104LA05 ,  4H104PA02 ,  4H104PA03 ,  4H104PA05 ,  4H104PA07 ,  4H104PA09 ,  4H104PA20 ,  4H104PA21 ,  4H104PA41 ,  4H104QA18 ,  4J002AC041 ,  4J002BB011 ,  4J002BB151 ,  4J002BC021 ,  4J002BC061 ,  4J002BD041 ,  4J002BG041 ,  4J002BG091 ,  4J002BN151 ,  4J002BN161 ,  4J002BP011 ,  4J002CB001 ,  4J002CF061 ,  4J002CG001 ,  4J002CH011 ,  4J002CH071 ,  4J002CK021 ,  4J002CL001 ,  4J002CM041 ,  4J002CN031 ,  4J002EA046 ,  4J002FD036
引用特許:
審査官引用 (7件)
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