特許
J-GLOBAL ID:201003034056221466
基板用の吸着装置及び基板の取り扱い方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
藤本 英介
, 神田 正義
, 宮尾 明茂
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-226556
公開番号(公開出願番号):特開2010-062337
出願日: 2008年09月04日
公開日(公表日): 2010年03月18日
要約:
【課題】十分な密着面積を確保して基板保持層に基板を適切に密着させることができ、反りやすい基板を平らに矯正できる基板用の吸着装置及び基板の取り扱い方法を提供する。【解決手段】半導体ウェーハWを支持する吸着プレート1と、吸着プレート1に嵌合されてその表面との間に空間3を区画する吸着蓋10と、吸着蓋10の吸着プレート1表面に対向する対向面に支持されて半導体ウェーハWを保持する吸着治具とを備え、吸着プレート1に、半導体ウェーハ用の吸着孔2を穿孔し、吸着蓋10間の空気を吸引する吸引孔4を穿孔し、吸着蓋10には、吸着治具20用の脱気孔11を穿孔する。吸着治具20を、可撓性を有する断面略皿形の治具本体21と、治具本体21の周縁部に接着支持されて治具本体21の内底面に隙間を介して対向する弾性変形可能な基板保持層22と、治具本体21に穿孔されて内底面に連通し、脱気孔11に連通可能な連通孔23とから構成する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
表面に基板を着脱自在に支持する吸着プレートと、この吸着プレートに嵌め合わされてその表面との間に空間を区画する吸着蓋と、この吸着蓋の吸着プレート表面に対向する対向面に着脱自在に支持されて基板を着脱自在に保持する吸着治具とを含んでなる基板用の吸着装置であって、
吸着プレートに、基板用の吸着孔を設けるとともに、吸着蓋との間の空間の気体を吸引する吸引孔を設け、
吸着蓋に、吸着治具用の脱気孔を設け、
吸着治具は、可撓性を有する断面略皿形の治具本体と、この治具本体の周縁部に支持されて治具本体の凹んだ内底面に隙間を介して対向する変形可能な基板保持層と、治具本体に設けられて内底面に連通し、吸着蓋の脱気孔に連通可能な連通孔とを含んでなることを特徴とする基板用の吸着装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (8件):
5F031CA02
, 5F031FA01
, 5F031FA07
, 5F031FA12
, 5F031GA24
, 5F031GA26
, 5F031GA32
, 5F031HA13
引用特許:
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