特許
J-GLOBAL ID：201003035030068224

唇解析方法

発明者：
大栗 基樹

大栗 基樹 について

, 
舛田 勇二

舛田 勇二 について


出願人/特許権者：
株式会社資生堂

株式会社資生堂 について


代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-309327
公開番号（公開出願番号）：特開2010-134665
出願日： 2008年12月04日
公開日（公表日）： 2010年06月17日
要約：
【課題】本発明は、唇の全域の皺を精度良く解析することが可能な唇解析方法、唇解析用プログラム及び唇解析装置を提供することを目的とする。また、本発明は、該唇解析用プログラムが記録されている記録媒体及び該唇解析装置を有する唇解析システムを提供することを目的とする。【解決手段】唇解析方法は、唇領域を含む領域の三次元形状データを測定する手順と、測定された三次元形状データから、唇領域の三次元解析データを生成する手順と、生成された三次元解析データから、縦皺及び/又は横皺を抽出する手順と、抽出された縦皺及び/又は横皺に関する評価指標を算出する手順を有する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
唇領域を含む領域の三次元形状データを測定する手順と、 該測定された三次元形状データから、該唇領域の三次元解析データを生成する手順と、 該生成された三次元解析データから、縦皺及び/又は横皺を抽出する手順と、 該抽出された縦皺及び/又は横皺に関する評価指標を算出する手順を有することを特徴とする唇解析方法。
IPC (2件)：
G06T 7/60 ,  G06T 7/00
FI (2件)：
G06T7/60 150J ,  G06T7/00 C
Fターム (7件)：
5L096AA06 ,  5L096BA18 ,  5L096CA18 ,  5L096FA59 ,  5L096FA64 ,  5L096FA70 ,  5L096GA05
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)
引用文献：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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