特許
J-GLOBAL ID：201003035277068057

修飾ポリアミド膜

発明者：
ニウ,キュー.ジェーソン

ニウ,キュー.ジェーソン について

, 
ミコルス,ウィリアム イー.

ミコルス,ウィリアム イー. について

, 
チャン,チュンミン

チャン,チュンミン について


出願人/特許権者：
ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド

ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド について


代理人 (6件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  出野 知 ,  蛯谷 厚志 ,  齋藤 都子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-549176
公開番号（公開出願番号）：特表2010-517762
出願日： 2008年01月31日
公開日（公表日）： 2010年05月27日
要約：
修飾ポリアミド膜ならびにその製造方法および使用方法である。本発明は、ポリアミド膜を所定の修飾剤、例えば、限定するものではないが所定のオキサゾリン系および/またはチアゾリン系の化合物、その誘導体およびポリマー等と接触させることを含む方法を含む多くの態様を包含する。一態様において、ポリアミド膜の表面を、ポリオキサゾリンおよび任意にポリアルキレンオキサイド物質を含む溶液でコートし続いて任意に加熱する。好ましい態様は、改善された性能、例えば所定の種(例えば、塩化ナトリウムおよび/もしくは酸化ホウ素,例えばホウ酸もしくは種々のボレート塩)の拒絶の増大、汚染の低減、抗微生物特性の改善、ならびに/または貯蔵安定性の改善を示すことができる。
請求項（抜粋）：
ポリアミド膜を修飾する方法であって、ポリアミド膜を、式(I)
IPC (4件)：
B01D 71/56 ,  C08J 7/04 ,  B29C 41/32 ,  B01D 69/12
FI (4件)：
B01D71/56 ,  C08J7/04 A ,  B29C41/32 ,  B01D69/12
Fターム (52件)：
4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA61 ,  4D006MA01 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA09 ,  4D006MA10 ,  4D006MA21 ,  4D006MA31 ,  4D006MB06 ,  4D006MB18 ,  4D006MC22 ,  4D006MC23 ,  4D006MC29 ,  4D006MC33 ,  4D006MC37 ,  4D006MC39 ,  4D006MC45 ,  4D006MC51X ,  4D006MC56X ,  4D006MC58 ,  4D006MC59 ,  4D006MC62 ,  4D006MC63 ,  4D006MC71 ,  4D006MC82 ,  4D006NA41 ,  4D006NA46 ,  4D006PA01 ,  4D006PB01 ,  4F006AA38 ,  4F006AB33 ,  4F006AB34 ,  4F006AB65 ,  4F006BA11 ,  4F006BA17 ,  4F006CA09 ,  4F006DA04 ,  4F006EA05 ,  4F205AA29 ,  4F205AG01 ,  4F205AG03 ,  4F205AH03 ,  4F205AJ10 ,  4F205GA07 ,  4F205GB01 ,  4F205GB22 ,  4F205GB28 ,  4F205GC06 ,  4F205GF24
引用特許：
審査官引用 (4件)
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