特許
J-GLOBAL ID:201003037125830070

浄化処理装置及び浄化処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-296966
公開番号(公開出願番号):特開2010-119972
出願日: 2008年11月20日
公開日(公表日): 2010年06月03日
要約:
【課題】浄化処理効率の高いナノバブル含有液体を用いた浄化処理装置を提供する。【解決手段】浄化処理装置80は、第1の槽5内に導入された被処理液体を用いてマイクロバブル含有液体を作製するマイクロバブル発生装置98と、第2の槽11内に導入されたマイクロバブル含有液体を用いてマイクロナノバブル含有液体を作製するマイクロナノバブル発生装置99と、第3の槽20内に導入されたマイクロナノバブル含有液体を用いてナノバブル含有液体を作製するナノバブル発生装置100と、ナノバブル含有液体が導入される浮遊物質分離槽48とを備え、各槽の間には、隣接する槽の上部側間において、槽内の液体を移送するオーバーフロー管10、19及び28と、隣接する槽の下部側間において、槽内の液体を移送する連通管50、51及び52とが、それぞれ設けられているので、製造したナノバブル含有液体を用いて効率よく浄化処理を行うことができる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
第1の槽内に導入された被処理液体を用いて第1の微細気泡含有液体を作製する第1のマイクロバブル含有液体作製手段と、 第2の槽内に導入された第1の微細気泡含有液体を用いて第2の微細気泡含有液体を作製する第2のマイクロバブル含有液体作製手段と、 第3の槽内に導入された第2の微細気泡含有液体を用いて第3の微細気泡含有液体を作製する第3のマイクロバブル含有液体作製手段と、 第3の微細気泡含有液体が導入される浄化処理槽とを備え、 第1の槽と第2の槽との間、第2の槽と第3の槽との間、及び第3の槽と上記浄化処理槽との間には、隣接する槽の上部側間において、槽内の液体を移送する上部移送手段と、当該上部移送手段よりも下側に位置し、隣接する槽の下部側間において、槽内の液体を移送する下部移送手段とが、それぞれ設けられていることを特徴とする浄化処理装置。
IPC (9件):
C02F 1/24 ,  B01F 3/04 ,  B01F 5/12 ,  C02F 1/74 ,  C02F 3/20 ,  C02F 3/30 ,  C02F 9/00 ,  B01F 5/00 ,  C02F 3/08
FI (19件):
C02F1/24 C ,  B01F3/04 C ,  B01F5/12 ,  C02F1/74 Z ,  C02F3/20 Z ,  C02F3/30 A ,  C02F3/30 B ,  C02F9/00 501G ,  C02F9/00 502P ,  C02F9/00 502R ,  C02F9/00 502Z ,  C02F9/00 503C ,  C02F9/00 503G ,  C02F9/00 503Z ,  C02F9/00 504A ,  C02F9/00 504C ,  C02F9/00 504D ,  B01F5/00 D ,  C02F3/08 Z
Fターム (40件):
4D003AA09 ,  4D003AB12 ,  4D003BA02 ,  4D003CA02 ,  4D003CA03 ,  4D003CA10 ,  4D029AA09 ,  4D029AB05 ,  4D037AA01 ,  4D037AA11 ,  4D037AB02 ,  4D037BA03 ,  4D037BB01 ,  4D037BB02 ,  4D037CA06 ,  4D037CA07 ,  4D037CA12 ,  4D037CA14 ,  4D040BB01 ,  4D040BB82 ,  4D040BB91 ,  4D050AA01 ,  4D050AA12 ,  4D050AB11 ,  4D050BB01 ,  4D050BB20 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA04 ,  4D050CA13 ,  4D050CA16 ,  4D050CA17 ,  4G035AB21 ,  4G035AC01 ,  4G035AC29 ,  4G035AC33 ,  4G035AE01
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • ナノバブルの利用方法及び装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-288963   出願人:独立行政法人産業技術総合研究所
  • ナノ気泡の生成方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-145325   出願人:独立行政法人産業技術総合研究所
  • 廃液の処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2003-121082   出願人:日立エンジニアリング株式会社
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審査官引用 (5件)
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