含フッ素化合物および高分子化合物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 渡邊隆 , 鈴木三義 , 西和哉 , 村山靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-052095
公開番号（公開出願番号）：特開2010-018777
出願日： 2009年03月05日
公開日（公表日）： 2010年01月28日
要約：

【課題】新規な含フッ素化合物、および該化合物をモノマー単位とし、液浸露光用レジスト組成物の成分として好適な高分子化合物の提供。【解決手段】下記一般式(a-i)で表される化合物、及び当該化合物を重合して得られる高分子化合物。[式(a-i)中、Rは水素原子、低級アルキル基、又はハロゲン化低級アルキル基であり;Xはアルキレン基または脂環を有する二価の有機基であり;R1はフッ素原子を有する有機基である。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(a-i)で表される含フッ素化合物。

IPC (3件)：

C08F 20/22 , H01L 21/027 , C07C 69/653

FI (3件)：

C08F20/22 , H01L21/30 502R , C07C69/653

Fターム (24件)：

2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA01 , 2H025FA17 , 4H006AA01 , 4H006AB46 , 4H006BJ20 , 4H006BM10 , 4H006BM71 , 4J100AL08P , 4J100BA15P , 4J100BB18P , 4J100BC03P , 4J100BC04P , 4J100CA01 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (1件)

含フッ素単量体、含フッ素高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-196907 出願人：信越化学工業株式会社

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