特許

J-GLOBAL ID：200903059189929447

含フッ素単量体、含フッ素高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法

発明者： 長谷川 幸士 ,  金生 剛 ,  小林 克浩 ,  西 恒寛 ,  渡辺 武
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-196907
公開番号（公開出願番号）：特開2009-029974
出願日： 2007年07月30日
公開日（公表日）： 2009年02月12日
要約：

【課題】レジスト材料のベース樹脂用の単量体を提供する。【解決手段】式(1)で示される含フッ素単量体。(R1はH、又はC1〜20の1価炭化水素基を示し、1価炭化水素基の場合、構成する-CH2-が-O-又は-C(=O)-に置換されていてもよい。R2はH、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。R3、R4はH、又はC1〜8の1価炭化水素基を示す。又は、R3、R4は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。Aは、C1〜6の2価炭化水素基を示す。)含フッ素単量体は、機能性材料、感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として有用である。単量体からの高分子化合物は高解像性、耐水性に優れ、レジスト材料のベース樹脂として精密な微細加工に極めて有効である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示される含フッ素単量体。

IPC (8件)：

C08F 20/28 ,  C08F 32/08 ,  C07C 69/003 ,  C07C 69/67 ,  C07C 69/753 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/38 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

C08F20/28 ,  C08F32/08 ,  C07C69/003 B ,  C07C69/67 ,  C07C69/753 Z ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/38 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (73件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BF07 ,  2H025BG00 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025DA03 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096CA06 ,  2H096DA10 ,  2H096EA05 ,  2H096EA06 ,  2H096GA09 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006AB78 ,  4H006BJ20 ,  4H006BJ30 ,  4H006BM10 ,  4H006BM71 ,  4H006BN10 ,  4H006BT12 ,  4H006KC14 ,  4J100AJ02T ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100AR09P ,  4J100AR32P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03R ,  4J100BA03T ,  4J100BA04P ,  4J100BA11S ,  4J100BA15P ,  4J100BB18P ,  4J100BB18T ,  4J100BC03P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04T ,  4J100BC07Q ,  4J100BC07R ,  4J100BC07S ,  4J100BC12Q ,  4J100BC12R ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53S ,  4J100BC53T ,  4J100BC58S ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA38 ,  4J100DA62 ,  4J100FA17 ,  4J100FA18 ,  4J100FA47 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (3件)

• ハイドレート構造を有するフッ素含有感光性ポリマー及びこれを含むレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-368107   出願人：三星電子株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-108824   出願人：ジェイエスアール株式会社, インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
• 含フッ素重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-222530   出願人：セントラル硝子株式会社, 東ソ-・エフテック株式会社

審査官引用 (4件)

• レジスト保護膜材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-065717   出願人：信越化学工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-285486   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-155897   出願人：富士写真フイルム株式会社
• フォトマスクブランク、レジストパターンの形成方法、及びフォトマスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-150130   出願人：信越化学工業株式会社