特許
J-GLOBAL ID:201003039809150208

吸収されなかった赤外レーザー光の再循環により赤外レーザー光の吸収を高めるプラスチック赤外線溶接

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 川口 義雄 ,  渡邉 千尋 ,  大崎 勝真 ,  坪倉 道明
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-506337
公開番号(公開出願番号):特表2010-527296
出願日: 2008年05月05日
公開日(公表日): 2010年08月12日
要約:
低吸収TTIr工程を使用して溶接されるプラスチック部品を通過した吸収されなかった赤外レーザー光が、工程内で再吸収されるように低吸収の溶接界面まで再循環される。赤外レーザー光のビームは、溶接されるプラスチック部品、つまり第1の透過部品と第2の吸収(または部分吸収)部品とに方向付けられる。赤外レーザー光は透過部品に入射して、まず溶接される透過部品を通過して、2つの部品の接合部である溶接界面まで進む。溶接界面では、赤外レーザー光は赤外吸収添加剤により部分的に吸収されるか、吸収部品により部分的に吸収されるか、またはその両方で部分的に吸収される。吸収されなかった赤外レーザー光の一部は、そのまま吸収部品を通過して、反対側から出射する。その後、この赤外レーザー光は溶接界面の方向に再度方向付けられる。2回目の通過(および任意のその後の通過)で、より多量の赤外レーザー光が部分的に吸収する媒体(赤外吸収添加剤、吸収部品、またはその両方)内で吸収される。一態様では、部品は、透過部品が吸収部品を同軸に囲む管状部品である。赤外レーザー光は、管状部品を同軸に囲む円筒ミラーを使用して再度方向付けられる。一態様では、部品は管状部品と継ぎ手とを含み、赤外レーザーは部品を囲む球面ミラーを使用して再度方向付けられる。
請求項(抜粋):
低吸収スルートランスミッション赤外線溶接工程において、透過部品と吸収部品とを含むプラスチック部品を溶接する方法であって、 赤外レーザー光の光源から赤外レーザー光のビームを部品に方向付けるステップであって、赤外レーザー光のビームが透過部品に入射し、透過部品を通過して透過部品と吸収部品との接合部である溶接界面まで進み、赤外レーザー光の一部が吸収部品を通過して吸収部品から出射するステップと、 吸収されなかった赤外レーザー光を溶接界面の方向に再度方向付けて、赤外レーザー光の全吸収を高めるステップとを含む、方法。
IPC (4件):
B29C 65/16 ,  B23K 26/32 ,  B23K 26/08 ,  B23K 26/06
FI (4件):
B29C65/16 ,  B23K26/32 ,  B23K26/08 K ,  B23K26/06 A
Fターム (13件):
4E068BA00 ,  4E068CA01 ,  4E068CA11 ,  4E068CD01 ,  4E068CD11 ,  4E068CE08 ,  4E068DB10 ,  4F211AD05 ,  4F211AK06 ,  4F211TA01 ,  4F211TC02 ,  4F211TD11 ,  4F211TN27
引用特許:
審査官引用 (1件)

前のページに戻る