イオンアシストの下で部分的に形成された下地層を含む反射防止性被膜で被覆される光学物品とその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：渡辺望稔 , 三和晴子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-511705
公開番号（公開出願番号）：特表2010-529510
出願日： 2008年06月12日
公開日（公表日）： 2010年08月26日
要約：

本発明は、反射防止特性を有する光学物品であって、反射防止性被膜で被覆された少なくとも1つの主面を有する基材、基材側から順に、同一の物質から形成される2つの隣接する層を含んだ、当該2つの隣接する層の厚みの合計が75nm以上である下地層、ならびに少なくとも1つの高屈折率層および少なくとも1つの低屈折率層を含む多層反射防止性積層体を備え、下地層の当該2つの隣接する層のうち、第1の層の成膜はイオンアシストなく行われ、第2の層の成膜はイオンアシストの下で行われる光学物品に関する。また、本発明はかかる光学物品の製造方法に関する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

反射防止特性を備えた光学物品であって、反射防止性被膜で被覆された少なくとも1つの主面を有する基材、基材側から順に: -好ましくは同一の物質から形成される2つの隣接する層を含み、2つの隣接する層の厚みの合計が75nm以上である下地層;ならびに -少なくとも1つの高屈折率層および少なくとも1つの低屈折率層を含む多層反射防止性積層体を備え、下地層の前記2つの隣接する層のうち、第1の層の成膜はイオンアシストなく行われ、第2の層の成膜はイオンアシストの下で行われる光学物品。

IPC (1件)：

G02B 1/11

FI (1件)：

G02B1/10 A

Fターム (7件)：

2K009AA02 , 2K009BB02 , 2K009BB11 , 2K009CC03 , 2K009DD03 , 2K009DD08 , 2K009EE03

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭62-100701
薄膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-046315 出願人：セイコーエプソン株式会社
光学要素
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-134625 出願人：伊藤光学工業株式会社

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