特許
J-GLOBAL ID：200903048732806189

薄膜の製造方法

発明者：
金井 利仁

金井 利仁 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-046315
公開番号（公開出願番号）：特開2005-232565
出願日： 2004年02月23日
公開日（公表日）： 2005年09月02日
要約：
【課題】 クラック発生を低減できる反射防止膜を成膜可能な製造方法を提供する。【解決手段】 樹脂性の基板に蒸着により反射防止膜を成膜する製造方法であって、成膜工程の前に、チェンバー内を真空に維持する準備工程も含め、チェンバー内の圧力を1.0×10-2から1.0×10-1Paに維持する。これにより、成膜する際に残留応力が大きいとされているSiO2からなる低屈折率層を用いて反射防止膜を形成しても、高温・多湿の状態に長時間おいた加速度試験においてクラックの発生はみられず、クラックの発生の防止に有効である。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
チェンバー内を真空にして、樹脂性の基板上に、蒸着により薄膜を生成する成膜工程と、 前記成膜工程の前に、前記チェンバー内を真空に維持する準備工程とを有し、 前記成膜工程および前記準備工程において、前記チェンバー内の圧力を1.0×10-2から1.0×10-1Paに維持する薄膜の製造方法。
IPC (4件)：
C23C14/24 ,  C23C14/08 ,  C23C14/20 ,  G02B1/11
FI (4件)：
C23C14/24 R ,  C23C14/08 N ,  C23C14/20 A ,  G02B1/10 A
Fターム (17件)：
2K009AA02 ,  2K009AA08 ,  2K009BB14 ,  2K009CC03 ,  2K009DD03 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029BA43 ,  4K029BA44 ,  4K029BA46 ,  4K029BA64 ,  4K029BC07 ,  4K029BC08 ,  4K029BD00 ,  4K029CA02 ,  4K029EA03 ,  4K029EA05
引用特許：
出願人引用 (4件)
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