特許

J-GLOBAL ID：201003043634650293

レーザ生成プラズマEUV光源のためのガス管理システム

発明者： ビカノフ アレクサンダー エヌ ,  アーショフ アレクサンダー アイ ,  フォーメンコフ イゴー ヴィー ,  ブラント ディヴィッド シー
出願人/特許権者： サイマー インコーポレイテッド
代理人 (6件)： 辻居 幸一 ,  熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  西島 孝喜 ,  須田 洋之 ,  上杉 浩
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-522902
公開番号（公開出願番号）：特表2010-538420
出願日： 2008年08月15日
公開日（公表日）： 2010年12月09日
要約：

閉ループ流路を形成する封入構造体と、流路と流体連通することができるプラズマ部位でプラズマを発生させるシステム、例えば、レーザ生成プラズマシステムとを含むことができる装置及び対応する使用方法を本明細書で説明する。この装置に対して、ガスは、イオン阻止緩衝ガス及び/又はエッチャントを含むことができる封入構造体に配置することができる。ポンプを設けて、閉ループ流路を通してガスを押し進めることができる。流路を流れるガスから熱を除去する1つ又はそれよりも多くの熱交換器を設けることができる。一部の構成では、フィルタを使用して、流路を流れるガスからターゲット種の少なくとも一部分を除去することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

閉ループ流路を形成する封入構造体と、 前記流路と流体連通しているプラズマ部位でプラズマを発生させるシステムと、 前記封入構造体に配置されたガスと、 前記閉ループ流路を通して前記ガスを推し進めるポンプと、 前記流路を流れるガスから熱を除去する熱交換器と、 前記流路を流れるガスからターゲット種の少なくとも一部分を除去するフィルタと、 を含むことを特徴とする装置。

IPC (2件)：

H05G 2/00 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H05G1/00 K ,  H01L21/30 531S

Fターム (7件)：

4C092AA06 ,  4C092AC09 ,  4C092BD05 ,  4C092BD17 ,  4C092BD18 ,  4C092BD19 ,  5F046GC03

引用特許：

審査官引用 (2件)

• フォトリソグラフィに使用するための極紫外線を生成するための方法と装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平10-532879   出願人：アドヴァンスドエナジシスティムズインク
• リソグラフィツールにおいて使用されるガスをリサイクルするための方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-076081   出願人：エーエスエムエルホールディングナームローゼフェンノートシャップ