特許
J-GLOBAL ID:201003044142341526

感光性組成物及びパターン膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 宮▲崎▼主税 ,  目次 誠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-199662
公開番号(公開出願番号):特開2010-039051
出願日: 2008年08月01日
公開日(公表日): 2010年02月18日
要約:
【課題】露光及び現像により感光性組成物の硬化物からなるパターン膜を基板上に形成する際の現像性に優れており、さらに形成されたパターン膜の電気絶縁性を高めることができる感光性組成物、並びに該感光性組成物を用いたパターン膜の製造方法を提供する。【解決手段】カルボキシル基を有するシロキサンポリマーと、環状エーテル基を有するシロキサンポリマーとを含むシロキサンポリマー(A)と、光酸発生剤、光ラジカル発生剤及びキノンジアジド化合物の内の少なくとも1種の物質(B)とを含む感光性組成物、並びに該感光性組成物からなる感光性組成物層1を基板2上に形成した後、露光することにより、露光部1aの感光性組成物層1を硬化させて現像液に不溶にし、次に現像することにより、感光性組成物の硬化物からなるパターン膜1Aを形成するパターン膜1Aの製造方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
カルボキシル基を有するシロキサンポリマーと、環状エーテル基を有するシロキサンポリマーとを含むシロキサンポリマー(A)と、 光酸発生剤、光ラジカル発生剤及びキノンジアジド化合物の内の少なくとも1種の物質(B)とを含むことを特徴とする、感光性組成物。
IPC (5件):
G03F 7/075 ,  G03F 7/023 ,  G03F 7/40 ,  H01L 21/027 ,  C08G 59/42
FI (6件):
G03F7/075 521 ,  G03F7/075 511 ,  G03F7/023 ,  G03F7/40 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08G59/42
Fターム (28件):
2H025AA04 ,  2H025AA20 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BC78 ,  2H025BE01 ,  2H025CA02 ,  2H025CA35 ,  2H025CA48 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H096BA05 ,  2H096BA10 ,  2H096EA02 ,  2H096GA09 ,  2H096HA01 ,  4J036AK17 ,  4J036DB17 ,  4J036FB16 ,  4J036GA01 ,  4J036GA25 ,  4J036HA02 ,  4J036JA09
引用特許:
出願人引用 (1件)

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