特許
J-GLOBAL ID:201003044142341526
感光性組成物及びパターン膜の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
宮▲崎▼主税
, 目次 誠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-199662
公開番号(公開出願番号):特開2010-039051
出願日: 2008年08月01日
公開日(公表日): 2010年02月18日
要約:
【課題】露光及び現像により感光性組成物の硬化物からなるパターン膜を基板上に形成する際の現像性に優れており、さらに形成されたパターン膜の電気絶縁性を高めることができる感光性組成物、並びに該感光性組成物を用いたパターン膜の製造方法を提供する。【解決手段】カルボキシル基を有するシロキサンポリマーと、環状エーテル基を有するシロキサンポリマーとを含むシロキサンポリマー(A)と、光酸発生剤、光ラジカル発生剤及びキノンジアジド化合物の内の少なくとも1種の物質(B)とを含む感光性組成物、並びに該感光性組成物からなる感光性組成物層1を基板2上に形成した後、露光することにより、露光部1aの感光性組成物層1を硬化させて現像液に不溶にし、次に現像することにより、感光性組成物の硬化物からなるパターン膜1Aを形成するパターン膜1Aの製造方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
カルボキシル基を有するシロキサンポリマーと、環状エーテル基を有するシロキサンポリマーとを含むシロキサンポリマー(A)と、
光酸発生剤、光ラジカル発生剤及びキノンジアジド化合物の内の少なくとも1種の物質(B)とを含むことを特徴とする、感光性組成物。
IPC (5件):
G03F 7/075
, G03F 7/023
, G03F 7/40
, H01L 21/027
, C08G 59/42
FI (6件):
G03F7/075 521
, G03F7/075 511
, G03F7/023
, G03F7/40 501
, H01L21/30 502R
, C08G59/42
Fターム (28件):
2H025AA04
, 2H025AA20
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BC78
, 2H025BE01
, 2H025CA02
, 2H025CA35
, 2H025CA48
, 2H025CB33
, 2H025CB41
, 2H025CB43
, 2H025FA17
, 2H025FA29
, 2H096BA05
, 2H096BA10
, 2H096EA02
, 2H096GA09
, 2H096HA01
, 4J036AK17
, 4J036DB17
, 4J036FB16
, 4J036GA01
, 4J036GA25
, 4J036HA02
, 4J036JA09
引用特許:
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