ウェーハ洗浄装置及びウェーハ製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人ウィルフォート国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-117954
公開番号（公開出願番号）：特開2010-267815
出願日： 2009年05月14日
公開日（公表日）： 2010年11月25日
要約：

【課題】洗浄により得られるウェーハの品質を向上することのできる技術を提供する。【解決手段】所定の洗浄液をウェーハWに吐出して、ウェーハWを洗浄するウェーハ洗浄装置1において、ウェーハWに洗浄液を吐出するために、ウェーハWを収容するスピン槽5を備え、スピン槽5におけるノズル17が設けられたノズルキャップ16の表面を、水に対する接触角が90度以上のPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)により構成するようにする。係るウェーハ洗浄装置1によると、ノズルキャップ16における洗浄液の残留を低減することができ、得られるウェーハWの品質を向上することができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

所定の洗浄液を洗浄対象のウェーハに吐出して、前記ウェーハを洗浄するウェーハ洗浄装置において、前記ウェーハに前記洗浄液を吐出するために、前記ウェーハを収容するウェーハ洗浄部を備え、前記ウェーハ洗浄部の内壁又は、前記ウェーハ洗浄部内に配置される部材の少なくとも一部の表面を、水に対する接触角が90度以上の疎水性部材により構成するウェーハ洗浄装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 , H01L 21/683

FI (4件)：

H01L21/304 643A , H01L21/304 651B , H01L21/304 648Z , H01L21/68 N

Fターム (25件)：

5F031CA02 , 5F031HA02 , 5F031HA05 , 5F031HA59 , 5F031MA23 , 5F031NA13 , 5F157AA16 , 5F157AA42 , 5F157AB02 , 5F157AB03 , 5F157AB12 , 5F157AB33 , 5F157AB90 , 5F157AC01 , 5F157AC23 , 5F157BA02 , 5F157BB13 , 5F157BB45 , 5F157CF62 , 5F157DA21 , 5F157DA31 , 5F157DB38 , 5F157DB51 , 5F157DB57 , 5F157DC90

引用特許：

審査官引用 (5件)

枚葉式洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-248496 出願人：株式会社ラスコ
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-245238 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
回転式基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-065841 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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