特許

J-GLOBAL ID：201003046423684808

測定装置および方法

発明者： ボウマン,ウィレム,ヤン ,  ムルダー,ハイネ,メレ ,  エンデンダイク,ウィルフレッド エドワード ,  オッテ,ロブ
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-168332
公開番号（公開出願番号）：特開2010-034553
出願日： 2009年07月17日
公開日（公表日）： 2010年02月12日
要約：

【課題】個々に制御可能な素子のアレイの使用に関する1つまたは複数の問題を解決することができる測定、制御装置、および/または関連した方法を提供すること。【解決手段】本発明の態様によれば、個々に制御可能な素子のアレイの個々に制御可能な素子の特性を決定するために測定装置を制御する方法が開示され、個々に制御可能な素子のアレイは、放射ビームの分布を制御することが可能である。本方法は、複数の個々に制御可能な素子のシーケンスのために、複数の個々に制御可能な素子の個々に制御可能な素子において放射の測定ビームを誘導するステップと、一度測定ビームが個々に制御可能な素子によって再誘導されると、それを検出するステップとを含み、複数の個々に制御可能な素子のために本方法を実施するシーケンスは、複数の個々に制御可能な素子が、放射ビームの分布を制御するために方向付けされるとき、複数の個々に制御可能な素子の方向付けに関連するものである。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

個々に制御可能な素子のアレイの個々に制御可能な素子の特性を決定するために測定装置を制御する方法であって、前記個々に制御可能な素子のアレイは、放射ビームの分布を制御することが可能である方法において、複数の個々に制御可能な素子のシーケンスのために、 前記複数の個々に制御可能な素子の個々に制御可能な素子において、放射の測定ビームを誘導するステップと、 一度前記測定ビームが前記個々に制御可能な素子によって再誘導されると、それを検出するステップとを含み、 前記複数の個々に制御可能な素子について当該方法を実施する前記シーケンスは、前記複数の個々に制御可能な素子が、放射ビームの分布を制御するために方向付けされるとき、前記複数の個々に制御可能な素子の前記方向付けに関連する、 方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (5件)：

H01L21/30 516C ,  H01L21/30 529 ,  H01L21/30 527 ,  H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521

Fターム (6件)：

5F046BA07 ,  5F046CA03 ,  5F046CB02 ,  5F046CB22 ,  5F046DA01 ,  5F046DB01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 空間光変調器を校正するためのシステム及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-024275   出願人：エーエスエムエルホールディングナームローゼフェンノートシャップ
• マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系のマルチミラーアレイを監視するための方法および装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2009-547617   出願人：カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー
• 高性能パターン発生器のためのデータパス
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-522140   出願人：マイクロニックレーザーシステムズアクチボラゲット