特許
J-GLOBAL ID：201003070889926427
マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系のマルチミラーアレイを監視するための方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
杉村 憲司
, 澤田 達也
, 下地 健一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-547617
公開番号（公開出願番号）：特表2010-518595
出願日： 2008年02月06日
公開日（公表日）： 2010年05月27日
要約：
マイクロリソグラフィ投影露光装置(10)の照明系(12)は、瞳孔面と、瞳孔面を可変に照明するために、好ましくは個々に制御可能な実質的に平面状に配置されたビーム偏向素子(28)とを有する。それぞれのビーム偏向素子(28)によって、ビーム偏向素子(28)に入射する投影光線(32)の偏向を、ビーム偏向素子(28)に印加された制御信号に関係して行うことができる。測定照明装置(54,56,58,60;88;90;98)は、投影光線(32)とは無関係な測定光線(36)をビーム偏向素子(28)に向ける。検出装置は、ビーム偏向素子(28)における偏向後に測定光線(38)を検出する。評価ユニットは、検出装置によって提供された測定信号から投影光線(32)の偏向を測定する。
請求項（抜粋）：
瞳孔面と、有利には瞳孔面を可変に照明するための実質的に平面状に配置された個々に制御可能なビーム偏向素子(28)とを備え、個々のビーム偏向素子(28)により、該ビーム偏向素子(28)に入射する投影光線(32)の偏向が、前記ビーム偏向素子(28)に印加された制御信号に関係して行われるマイクロリソグラフィ投影露光装置(10)の照明系(12)において、
前記投影光線(32)とは無関係な測定光線(36)を前記ビーム偏向素子(28)に向ける前記ことができる少なくとも1つの測定照明装置(54,56,58,60;88;90;98)と、
前記ビーム偏向素子(28)における偏向後に測定光線(38)を検出することができる検出装置と、
該検出装置によって提供された測定信号から前記投影光線(32)の偏向を測定するための評価ユニットとが設けられていることを特徴とする照明系。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G02B 5/08
, G02B 5/00
H01L21/30 516C
, H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
, G02B5/08 B
, G02B5/00 Z
, H01L21/30 529
2H042AA02
, 2H042AA19
, 2H042AA25
, 2H042DB08
, 2H042DD04
, 2H042DE04
, 5F046BA03
, 5F046CA04
, 5F046CB02
, 5F046CB13
, 5F046CB23
, 5F046DA01
, 5F046DA11
, 5F046DB01
, 5F046DC02
審査官引用 (10件)
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リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2005-330924
出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
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リトグラフ装置、および、デバイスの製造方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2004-273338
出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ, エイエスエムエルホールディングナムローゼフエンノートシャップ
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露光方法および装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2004-321390
出願人：富士写真フイルム株式会社
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