配向制御された細胞パターンの回収ツール

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：吉武賢次 , 中村行孝 , 紺野昭男 , 横田修孝 , 伊藤武泰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-293094
公開番号（公開出願番号）：特開2010-119304
出願日： 2008年11月17日
公開日（公表日）： 2010年06月03日
要約：

【課題】配向が制御された細胞パターンを安定的かつ確実に維持したまま、細胞にとって低侵襲な条件で、細胞パターンを迅速に回収できる、細胞パターン回収ツールの提供。【解決手段】本発明による細胞パターン回収ツールは、表面が易接着処理された基材層と、前記基材層上に形成された、表面がシラン処理された温度応答性ポリマー層と、前記温度応答性ポリマー層上に形成された、細胞接着阻害材料層とから構成されてなる、配向が制御された細胞パターンの回収ツールであって、細胞接着阻害材料層において、温度応答性ポリマー層が露出されてなる細胞接着領域を挟んで存在する、細胞接着阻害材料に覆われてなる細胞接着阻害領域同士の間の幅を、伸展方向が制御された細胞培養が可能な最大幅以下とすることを特徴とするものである。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

表面が易接着処理された基材層と、前記基材層上に形成された、表面がシラン処理された温度応答性ポリマー層と、前記温度応答性ポリマー層上に形成された、細胞接着阻害材料層とから構成されてなる、配向が制御された細胞パターンの回収ツールであって、細胞接着阻害材料層において、温度応答性ポリマー層が露出されてなる細胞接着領域を挟んで存在する、細胞接着阻害材料に覆われてなる細胞接着阻害領域同士の間の幅を、伸展方向が制御された細胞培養が可能な最大幅以下とすることを特徴とする、細胞パターン回収ツール。

IPC (3件)：

C12M 3/00 , C12N 5/07 , A61L 27/00

FI (4件)：

C12M3/00 A , C12N5/00 E , A61L27/00 Y , A61L27/00 W

Fターム (19件)：

4B029AA01 , 4B029AA27 , 4B029BB11 , 4B029CC08 , 4B029DG08 , 4B065AA90X , 4B065BB25 , 4B065BC03 , 4B065BC07 , 4B065BC41 , 4B065CA44 , 4C081AB11 , 4C081BA12 , 4C081BB04 , 4C081CA10 , 4C081CA18 , 4C081CD34 , 4C081DA02 , 4C081EA02

引用特許：

審査官引用 (10件)

細胞パターン回収ツール
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-271850 出願人：学校法人東京女子医科大学, 大日本印刷株式会社
人工組織体およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-163512 出願人：森田育男, 大日本印刷株式会社
前眼部関連細胞シート、3次元構造体、及びそれらの製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-226141 出願人：岡野光夫

全件表示

引用文献：

審査官引用 (2件)

日本バイオマテリアル学会シンポジウム2008予稿集,平成20年11月17日発行,P3-65
日本臨床,2008年5月,第66巻第5号,p.887-891

前のページに戻る