特許
J-GLOBAL ID：201003048976370642

基板処理装置および基板処理方法

発明者：
小林 賢一

小林 賢一 について

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外崎 宏

外崎 宏 について

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篠崎 弘行

篠崎 弘行 について

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牧野 夏木

牧野 夏木 について

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勝岡 誠司

勝岡 誠司 について

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國澤 淳次

國澤 淳次 について

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鍋谷 治

鍋谷 治 について

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森澤 伸哉

森澤 伸哉 について

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小川 貴弘

小川 貴弘 について


出願人/特許権者：
株式会社荏原製作所

株式会社荏原製作所 について


代理人 (3件)： 渡邉 勇 ,  小杉 良二 ,  廣澤 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-108671
公開番号（公開出願番号）：特開2010-050436
出願日： 2009年04月28日
公開日（公表日）： 2010年03月04日
要約：
【課題】高スループットを実現することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】本発明の基板処理装置は、基板Wを研磨する研磨部3と、基板Wを搬送する搬送機構5,6と、研磨された基板Wを洗浄し乾燥する洗浄部4とを備えている。洗浄部4は、複数の基板を洗浄するための複数の洗浄ラインを有する。この洗浄ラインは、複数の洗浄モジュール201A,201B,202A,202Bを備えており、基板は複数の搬送ロボット209,210によって搬送される。【選択図】図28
請求項（抜粋）：
基板を研磨する研磨部と、 基板を搬送する搬送機構と、 研磨された基板を洗浄し乾燥する洗浄部とを備えた基板処理装置であって、 前記洗浄部は、複数の基板を洗浄するための複数の洗浄ラインを有することを特徴とする基板処理装置。
IPC (1件)：
H01L 21/304
FI (5件)：
H01L21/304 651A ,  H01L21/304 622Q ,  H01L21/304 648J ,  H01L21/304 648A ,  H01L21/304 622K
Fターム (21件)：
5F157AA17 ,  5F157AA70 ,  5F157AB02 ,  5F157AB33 ,  5F157AB48 ,  5F157AB50 ,  5F157AB51 ,  5F157AB90 ,  5F157BA02 ,  5F157BA31 ,  5F157BB23 ,  5F157CB03 ,  5F157CB14 ,  5F157CB15 ,  5F157CC00 ,  5F157CF42 ,  5F157CF44 ,  5F157CF76 ,  5F157DB46 ,  5F157DB57 ,  5F157DC90
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (9件)
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