特許
J-GLOBAL ID:201003049141044724

基板製造用装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 小谷 悦司 ,  小谷 昌崇 ,  樋口 次郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-173317
公開番号(公開出願番号):特開2010-016090
出願日: 2008年07月02日
公開日(公表日): 2010年01月21日
要約:
【課題】作業用ヘッドによる作業を効率的に行い、さらにその信頼性を高めること。【解決手段】ディスペンサ装置は、基板Pに対して相対的に移動可能なディスペンスヘッド30を備え、このヘッド30により基板P上に塗布液を塗布する。ディスペンスヘッド30は、塗布液を塗布するためのヘッド本体31と、塗布ポイントの高さを測定するためのレーザー変位計40とを備える。レーザー変位計40は、照射部42a及び受光部42bを有し、塗布ポイントに照射した光の反射光を受光することにより塗布ポイントの高さを測定可能に構成されるもので、塗布ポイントの直上にヘッド本体31が位置するようにディスペンスヘッド30を配置した状態で、塗布ポイントの高さを測定可能に設けられている。【選択図】図2
請求項(抜粋):
位置決めされた基板に対して相対的に移動可能な作業用ヘッドを備え、この作業用ヘッドにより所定の作業を行うことにより部品実装基板の製造工程の一部を負担する基板製造用装置であって、 前記作業用ヘッドは、前記所定の作業として第1の作業を行うためのヘッド本体と、同所定の作業として第2の作業を行うための光学式変位センサとを備え、 前記第1の作業は、前記基板に対して行うものであり、前記第2の作業は、前記第1の作業を行う基板対象部分の高さを測定するものであり、 前記光学式変位センサは、光の照射部及び受光部を有し、前記照射部から前記基板対象部分に照射した光の反射光を前記受光部で受光することによって所定の測定基準面より前記基板対象部分の高さを測定可能に構成されると共に、前記基板対象部分の直上に前記ヘッド本体が位置するように前記作業用ヘッドを配置した状態で、前記測定基準面より前記基板対象部分の高さを測定可能に設けられていることを特徴とする基板製造用装置。
IPC (1件):
H05K 3/34
FI (1件):
H05K3/34 504D
Fターム (8件):
5E319AA03 ,  5E319AC01 ,  5E319BB05 ,  5E319CC22 ,  5E319CD27 ,  5E319CD35 ,  5E319CD53 ,  5E319GG15
引用特許:
出願人引用 (1件)

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