特許

J-GLOBAL ID：201003051731710740

地盤の改良工法

発明者： 永尾 浩一 ,  前田 幸男 ,  歌川 紀之 ,  末政 直晃 ,  阿部 敏達
出願人/特許権者： 佐藤工業株式会社 ,  末政 直晃 ,  国立大学法人 筑波大学
代理人 (1件)： 永井 義久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-059230
公開番号（公開出願番号）：特開2010-209633
出願日： 2009年03月12日
公開日（公表日）： 2010年09月24日
要約：

【課題】地盤の広範囲な対象領域を均等的に飽和度を低下させて地盤の改良を行う。【解決手段】混入管の先端付近に気泡発生ノズルを取り付け、対象領域の地盤内に導入する。予め容器内で多量に空気を含む混入水を生成し、前記混入管を介して対象領域の地盤に混入する直前に、前記気泡発生ノズルにより、前記混入水に平均径10〜60マイクロメートルの多数の超微細気泡を発生させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

対象領域の地盤中に超微細気泡を多数有する水を混入する地盤の改良工法であって、 対象領域の地盤に、先端付近に気泡発生ノズルを有する混入管を設け、 予め生成された多量に空気を含む混入水を前記混入管に供給し、 前記混入水を対象領域の地盤中に混入する直前に、前記気泡発生ノズルによって平均径10〜60マイクロメートルの多数の超微細気泡を混入水中に発生させながら前記地盤中に混入する、 ことを特徴とする地盤の改良工法。

IPC (1件)：

E02D 3/10

FI (1件)：

E02D3/10 102

Fターム (8件)：

2D043CA04 ,  2D043CA05 ,  2D043DA01 ,  2D043DA04 ,  2D043DB08 ,  2D043DD15 ,  2D043EB02 ,  2D046DA17