特許
J-GLOBAL ID：201003052773549261
面光源装置及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-065194
公開番号（公開出願番号）：特開2010-218920
出願日： 2009年03月17日
公開日（公表日）： 2010年09月30日
要約：
【課題】均一光拡散層及びパターン光拡散層の光出射側に、プリズムシート等の集光機能層を備え、面光源装置全体での輝度分布が均斉化された面光源装置、及びその製造方法を提供する。【解決手段】下式(5)で定義される調整値Cm(但し、mは1≦m≦nである整数)に占める、Cm≦0%を満たす調整値Cmの割合を60%以上とすると共に、調整値Cmを平均した平均調整値Cを、-30≦C<0%とする。 Cm=Tm/Sm×100(%) ・・・式(5) 但し、Smは調整前振幅、Tmは調整後振幅。【選択図】図20
請求項（抜粋）：
矩形状の開口部を有し、内面が反射面とされたハウジングと、該ハウジングに収容され、互いに平行に配列されたn本(但し、nは2以上の整数)の線状光源と、該ハウジングの開口部を塞ぐように配置された光学ユニットとを備え、
前記光学ユニットは、均一光拡散層と、該均一光拡散層の線状光源と反対側に配置された集光機能層と、前記均一光拡散層の何れか一方の面側であって、前記集光機能層よりも線状光源側に設けられたパターン光拡散層とを有し、
下式(5)で定義される調整値Cm(但し、mは1≦m≦nである整数)に占める、Cm≦0%を満たす調整値Cmの割合が60%以上であると共に、調整値Cmを平均した平均調整値Cが、-30≦C<0%であることを特徴とする面光源装置。
(線状光源Lm、座標X及び座標Xm)
光出射面において、各線状光源とその軸方向中央で直交する直線上の位置を座標Xとする。
最も外側に配置される線状光源をL1としてm番目に配置される線状光源をLm、座標Xにおける線状光源Lmの断面中心位置を座標Xmとする。
(座標Xm-)
mの値に応じて、下式(1a)又は下式(1b)により座標Xm-を定義する。
m=1の場合、
座標Xm-=座標[(3X1-X2)/2] ・・・式(1a)
m≠1の場合
座標Xm-=座標[(Xm-1+Xm)/2] ・・・式(1b)
(座標Xm+)
mの値に応じて、下式(2a)又は下式(2b)により座標Xm+を定義する。
m=nの場合、
座標Xm+=座標[(3Xn-Xn-1)/2] ・・・式(2a)
m≠nの場合
座標Xm+=座標[(Xm+Xm+1)/2] ・・・式(2b)
(調整前近似曲線A’m)
前記光学ユニットに代えて前記均一光拡散層のみを配置した時の、座標Xm-から座標Xm+までの輝度分布Amを最小二乗法で二次関数に近似した曲線を調整前近似曲線A’mとする。
(調整前振幅Sm)
前記調整前近似曲線A’m上の、座標Xmにおける値をAm0、座標Xm-における値をAm-、座標Xm+における値をAm+として、下式(3)により調整前振幅Smを定義する。
Sm=Am0-(Am-+Am+)/2 ・・・式(3)
(調整後近似曲線B’m)
前記光学ユニットに代えて前記均一光拡散層及びパターン光拡散層のみを配置した時の、各座標Xm-から座標Xm+までの輝度分布Bmを最小二乗法で二次関数に近似した曲線を調整後近似曲線B’mとする。
(調整後振幅Tm)
前記調整後近似曲線B’m上の、座標Xmにおける値をBm0、座標Xm-における値をBm-、座標Xm+における値をBm+として、下式(4)により調整後振幅Tmを定義する。
Tm=Bm0-(Bm-+Bm+)/2 ・・・式(4)
(調整値Cm)
前記調整後振幅Tm及び調整前振幅Smから、下式(5)により調整値Cmを定義する。
Cm=Tm/Sm×100(%) ・・・式(5)
IPC (6件)：
F21S 2/00
, F21V 3/00
, F21V 3/04
, G02B 5/04
, G02B 5/02
, G02B 3/00
F21S2/00 481
, F21V3/00 530
, F21V3/04 370
, G02B5/04 A
, G02B5/02 B
, G02B3/00 A
2H042BA01
, 2H042BA02
, 2H042BA05
, 2H042BA12
, 2H042BA14
, 2H042BA20
, 2H042CA12
