特許
J-GLOBAL ID：201003052955929566

基板処理装置

発明者：
長田 直之

長田 直之 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (3件)： 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫 ,  皆川 祐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-322018
公開番号（公開出願番号）：特開2010-147212
出願日： 2008年12月18日
公開日（公表日）： 2010年07月01日
要約：
【課題】効率的な生産が可能な基板処理装置を提供すること。【解決手段】基板処理装置は、処理液で基板Wを処理するための処理ユニット6と、この処理ユニット6に処理液を供給する処理液供給部25とを含む。処理液供給部25は、所定の大きさに統一され、処理液が流通する配管28をそれぞれ有する複数の処理液供給モジュール22と、複数の処理液供給モジュール22をそれぞれ配置するための複数の配置空間が内部に設けられた流体ボックス7とを含む。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板に処理液を供給して処理を行う基板処理装置であって、 処理液で基板を処理するための基板処理部と、 この基板処理部に処理液を供給する処理液供給部とを含み、 前記処理液供給部は、 所定の大きさに統一され、処理液が流通する配管をそれぞれ有する複数の処理液供給モジュールと、 前記複数の処理液供給モジュールをそれぞれ配置するための複数の配置空間が内部に設けられたモジュール装填部とを含む、基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 ,  G11B 5/84 ,  G11B 7/26
FI (5件)：
H01L21/304 648K ,  H01L21/304 648J ,  H01L21/304 643A ,  G11B5/84 Z ,  G11B7/26
Fターム (34件)：
5D112AA02 ,  5D112BA01 ,  5D112BA09 ,  5D112GA08 ,  5D112GA26 ,  5D121AA02 ,  5D121GG11 ,  5D121GG18 ,  5D121GG28 ,  5F157AA03 ,  5F157AA16 ,  5F157AA17 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB16 ,  5F157AB33 ,  5F157AB42 ,  5F157AB62 ,  5F157AB75 ,  5F157AB90 ,  5F157BB12 ,  5F157BB23 ,  5F157BB24 ,  5F157BB32 ,  5F157BB45 ,  5F157BC03 ,  5F157BC12 ,  5F157BC13 ,  5F157CB01 ,  5F157CC41 ,  5F157CF60 ,  5F157CF72 ,  5F157DC21 ,  5F157DC51
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (2件)

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