特許
J-GLOBAL ID:201003053041586411

排ガス処理触媒、排ガス処理方法および排ガス処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 光石 俊郎 ,  光石 忠敬 ,  田中 康幸 ,  松元 洋
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-197729
公開番号(公開出願番号):特開2010-179296
出願日: 2009年08月28日
公開日(公表日): 2010年08月19日
要約:
【課題】摩耗および被毒による性能低下を抑制した排ガス処理触媒を提供することにある。【解決手段】排ガスに含まれる一種以上の汚染物質を除去する排ガス処理触媒であって、前記汚染物質を除去するSO3還元触媒粉11と、SO3還元触媒粉11または排ガス成分と試薬との反応用の触媒でない希釈粉12とからなり、希釈粉12内にSO3還元触媒粉11を分散させるようにした。【選択図】図1
請求項(抜粋):
排ガスに含まれる一種以上の汚染物質を除去する排ガス処理触媒であって、 前記汚染物質を除去する触媒成分と、 排ガス反応用の触媒または排ガス成分と試薬との反応用の触媒でない希釈成分とからなり、 前記希釈成分内に前記触媒成分を分散させた ことを特徴とする排ガス処理触媒。
IPC (5件):
B01J 23/652 ,  B01J 23/46 ,  B01D 53/94 ,  F01N 3/08 ,  F01N 3/10
FI (5件):
B01J23/64 103A ,  B01J23/46 301A ,  B01D53/36 102B ,  F01N3/08 B ,  F01N3/10 A
Fターム (41件):
3G091AB04 ,  3G091BA11 ,  3G091BA14 ,  3G091CA15 ,  3G091CA16 ,  3G091GA06 ,  3G091GB10W ,  4D048AA02 ,  4D048AA06 ,  4D048AB02 ,  4D048BA06X ,  4D048BA07X ,  4D048BA27X ,  4D048BA32X ,  4D048BA41X ,  4D048BB02 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BC60A ,  4G169BC60B ,  4G169BC70A ,  4G169BC70B ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA08 ,  4G169CA12 ,  4G169CA13 ,  4G169EA18 ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FB30 ,  4G169FB36 ,  4G169FB63 ,  4G169FB67 ,  4G169FC08
引用特許:
審査官引用 (3件)

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