特許
J-GLOBAL ID：201003054118945351

浴槽装置

発明者：
山嵜 和幸

山嵜 和幸 について

, 
中條 数美

中條 数美 について

, 
岩田 耕治

岩田 耕治 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (3件)： 山崎 宏 ,  田中 光雄 ,  仲倉 幸典
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-294182
公開番号（公開出願番号）：特開2010-119482
出願日： 2008年11月18日
公開日（公表日）： 2010年06月03日
要約：
【課題】浴槽水中に多量のナノバブルを発生させることができると共に低コストでナノバブル含有浴槽水を製造でき、また、発生させるナノバブル量を自由に調整できる浴槽装置を提供する。【解決手段】この浴槽装置では、ナノバブル含有浴槽水製造部63の第1槽5でもってマイクロバブル発生装置65が発生するマイクロバブルを浴槽水に含有させることをスタートとし、次に、第2槽11,第3槽20の各槽のマイクロナノバブル発生装置66,ナノバブル発生装置67にて、順次、マイクロナノバブル、ナノバブルを生成して浴槽水に含有させることができる。そして、これら各槽のマイクロバブル発生器としては、市販の汎用品を採用できる。すなわち、市販の汎用品である3台のマイクロバブル発生器を使用して、ナノバブル含有浴槽水を製造して、浴槽部64で利用できる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
浴槽部と、 上記浴槽部からの浴槽水が導入されると共に上記浴槽水にナノバブルを含有させて上記ナノバブルを含有した浴槽水を上記浴槽部に導入するナノバブル含有浴槽水製造部とを備え、 上記ナノバブル含有浴槽水製造部は、 上記浴槽部からの浴槽水が導入されると共にマイクロバブル発生器が設置されていて上記浴槽水にマイクロバブルを含有させる第1槽と、 上記第1槽から上記マイクロバブルを含有した浴槽水が導入されると共にマイクロバブル発生器が設置されていて上記浴槽水にマイクロナノバブルを含有させる第2槽と、 上記第2槽から上記マイクロナノバブルを含有する浴槽水が導入されると共にマイクロバブル発生器が設置されていて上記浴槽水にナノバブルを含有させる第3槽と、 上記第3槽から上記ナノバブルを含有する浴槽水が導入されると共に上記浴槽水中の垢を浮上させて除去する第4槽と、 上記第4槽から上記ナノバブルを含有する浴槽水が導入されると共に上記浴槽水が含有するナノバブル量と相関関係がある上記浴槽水の酸化還元電位もしくはゼータ電位を測定する電位測定部を含む第5槽とを有し、 上記浴槽部は、上記第5槽から上記ナノバブルを含有する浴槽水が導入されることを特徴とする浴槽装置。
IPC (4件)：
A47K 3/00 ,  C02F 3/06 ,  C02F 1/24 ,  C02F 1/28
FI (6件)：
A47K3/00 E ,  A47K3/00 M ,  A47K3/00 H ,  C02F3/06 ,  C02F1/24 A ,  C02F1/28 D
Fターム (28件)：
4D003AA01 ,  4D003AB12 ,  4D003BA02 ,  4D003CA02 ,  4D003DA29 ,  4D003EA30 ,  4D003FA04 ,  4D003FA05 ,  4D003FA06 ,  4D037AA09 ,  4D037AB02 ,  4D037BA01 ,  4D037BB01 ,  4D037BB02 ,  4D037BB05 ,  4D037BB08 ,  4D037BB09 ,  4D037CA01 ,  4D037CA07 ,  4D037CA14 ,  4D624AA06 ,  4D624AB04 ,  4D624BA02 ,  4D624BA03 ,  4D624DA04 ,  4D624DA06 ,  4D624DB01 ,  4D624DB08
引用特許：
出願人引用 (7件)
全件表示
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM