特許

J-GLOBAL ID：201003054721077992

極端紫外光光源装置

発明者： 浅山 武志 ,  柿崎 弘司 ,  遠藤 彰 ,  永井 伸治
出願人/特許権者： 株式会社小松製作所 ,  ギガフォトン株式会社
代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-028192
公開番号（公開出願番号）：特開2010-212674
出願日： 2010年02月10日
公開日（公表日）： 2010年09月24日
要約：

【課題】イオン回収装置のイオン衝突面および/またはイオン衝突面に堆積した物質のスパッタリングによるチャンバ内への再拡散を防止する。【解決手段】真空チャンバ1内でターゲット物質Dにレーザ光を照射してプラズマを生成し該プラズマから極端紫外光を発生し、この極端紫外光の発生とともに生成されるイオンの流れ方向を磁場または電場によって制御する極端紫外光光源装置1は、真空チャンバ10側に設けた開口21を介して前記イオンを回収するイオン回収筒20と、イオン回収筒20内で前記イオンが衝突するイオン回収板22と、を備え、イオン回収板22の表面Saであるイオン衝突面を傾斜させることにより、該イオン衝突面で発生するスパッタ粒子の開口21方向への移動を阻害して該スパッタ粒子を内壁面Sbで回収するようにしている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

チャンバ内でターゲット物質にレーザ光を照射してプラズマを生成し該プラズマから極端紫外光を発生し、この極端紫外光の発生とともに生成されるイオンの流れ方向を磁場または電場によって制御する極端紫外光光源装置において、 前記チャンバ側に設けた開口部を介して前記イオンを回収するイオン回収装置と、 該イオン回収装置内で前記イオンが衝突するイオン衝突面で発生するスパッタ粒子の前記開口部方向への移動を阻害して該スパッタ粒子を回収する阻害機構と、 を備えたことを特徴とする極端紫外光光源装置。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (1件)：

H01L21/30 531S

Fターム (1件)：

5F046GC03

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 極端紫外光源装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-097037   出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
• 極端紫外光源装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-118168   出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
• 極端紫外光源装置及びノズル保護装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-285105   出願人：株式会社小松製作所