特許
J-GLOBAL ID:200903084592334180
極端紫外光源装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (3件):
宇都宮 正明
, 渡部 温
, 柳瀬 睦肇
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-118168
公開番号(公開出願番号):特開2008-277481
出願日: 2007年04月27日
公開日(公表日): 2008年11月13日
要約:
【課題】チャンバ内に滞留及び蓄積したデブリがチャンバを汚染して集光ミラー等の重要光学コンポーネントの性能を低下させることを防止し、長期間安定に極端紫外光を発生することが可能な極端紫外光源装置を提供する。【解決手段】この極端紫外光源装置は、ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する極端紫外光源装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内の所定の位置に供給されるターゲットにレーザビームを照射することによりプラズマを生成するドライバレーザと、チャンバ内に設置され、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射する集光ミラーと、プラズマから発生するデブリを捕集して、捕集されたデブリをチャンバ外に排出する除塵装置とを具備する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する極端紫外光源装置であって、
極端紫外光の生成が行われるチャンバと、
前記チャンバ内の所定の位置に供給されるターゲットにレーザビームを照射することによりプラズマを生成するドライバレーザと、
前記チャンバ内に設置され、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射する集光ミラーと、
プラズマから発生するデブリを捕集して、捕集されたデブリを前記チャンバ外に排出する除塵装置と、
を具備する極端紫外光源装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L21/30 531S
, H05G1/00 K
Fターム (9件):
4C092AA06
, 4C092AB19
, 4C092AC09
, 5F046AA22
, 5F046DA27
, 5F046GA09
, 5F046GA14
, 5F046GC03
, 5F046GC05
引用特許:
出願人引用 (6件)
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リソグラフィ投影装置及び前記装置で使用する微粒子バリヤ
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-336475
出願人:エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
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米国特許第6493423号明細書
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国際公開WO2001/49086号パンフレット
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米国特許第6377651号明細書
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光源装置及びそれを用いた露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-002142
出願人:株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
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特開昭63-292553号公報
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審査官引用 (10件)
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EUV光発生装置におけるデブリ回収装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-119756
出願人:株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
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極端紫外光源装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-261871
出願人:株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
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ECRプロセス装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-154798
出願人:三菱電機株式会社
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