特許
J-GLOBAL ID:201003055149062390

エポキシケトン類を製造する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 昌義
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-177440
公開番号(公開出願番号):特開2010-013426
出願日: 2008年07月07日
公開日(公表日): 2010年01月21日
要約:
【課題】副生物の生成を抑えつつ、目的の構造を有するエポキシケトン類を選択率良く製造し得る方法を提供することにある。【解決手段】アニオン交換性化合物を触媒として用い、酸化剤の存在下、共役エノン類を反応させてエポキシケトン類を製造する方法であって、前記アニオン交換性化合物として、ボタラッカイト構造を有する化合物、ハイドロタルサイト様化合物、又は、アニオン交換樹脂のすくなくともいずれかを用いることとする。【選択図】なし
請求項(抜粋):
アニオン交換性化合物を触媒として用い、酸化剤の存在下、共役エノン類を反応させてエポキシケトン類を製造する方法であって、前記アニオン交換性化合物として、ボタラッカイト構造を有する化合物を用いるエポキシケトン類を製造する方法。
IPC (3件):
C07D 303/12 ,  B01J 31/28 ,  B01J 35/02
FI (3件):
C07D303/12 ,  B01J31/28 Z ,  B01J35/02 Z
Fターム (26件):
4C048AA04 ,  4C048BB01 ,  4C048BC16 ,  4C048CC01 ,  4C048UU03 ,  4C048XX02 ,  4G169AA01 ,  4G169AA08 ,  4G169AA11 ,  4G169BA10A ,  4G169BA12A ,  4G169BA12B ,  4G169BA23A ,  4G169BA36A ,  4G169BB14B ,  4G169BC35B ,  4G169BC68B ,  4G169BE08B ,  4G169CB73 ,  4G169EA30 ,  4G169EC28 ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FB10 ,  4H039CA63 ,  4H039CC40

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