オブジェクト表面の特徴を求める干渉計

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：恩田博宣 , 恩田誠 , 本田淳 , 池上美穂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-268962
公開番号（公開出願番号）：特開2010-101898
出願日： 2009年11月26日
公開日（公表日）： 2010年05月06日
要約：

【課題】広帯域光源を使用してオブジェクト表面の特徴を求める干渉計システムを提供する。【解決手段】システム100は、検査電磁光線を検査表面124に、かつ基準電磁光線を基準表面122に振り向け、次にこれらの電磁光線を合成して干渉パターンを形成するように構成される干渉計であって、電磁光線が共通光源102から放出される構成の干渉計と、マルチエレメント検出器134と、干渉パターンを検出器に結像させて検出器の異なる要素が、検査表面を照射する検査電磁光線の異なる照射角に対応するように構成される一つ以上の光学系と、を含む。検出器要素が行なう測定によって、検査表面に関する変更解析/反射率データが供給される。システムは更に、異なるモード(例えば、形状測定モード)で動作するように再構成することができ、これらの異なるモードでは、検出器の異なる要素は検査表面の異なる位置に対応する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

広帯域光源と、前記広帯域光源から放出される検査電磁光線(検査EM光線)を検査表面に振り向け、かつ前記広帯域光源から放出される基準電磁光線(基準EM光線)を基準表面に振り向け、次にこれらの電磁光線を合成して光干渉パターンを形成するように構成される干渉計であって、前記検査EM光線及び前記基準EM光線が前記光干渉パターンを形成するときに前記検査EM光線及び基準EM光線の相対光路長を調整する走査ステージを含み、かつ前記走査ステージは前記光路長を前記広帯域光源のコヒーレンス長よりも長い距離に亘って変化させるように構成される、前記干渉計とマルチエレメント検出器と、前記干渉パターンを前記検出器に結像させて前記検出器の異なる要素が、前記検査表面を照射する前記検査EM光線の異なる照射角に対応するように構成される一つ以上の光学系とを備えるシステム。

IPC (2件)：

G01B 9/02 , G01B 11/24

FI (2件)：

G01B9/02 , G01B11/24 D

Fターム (42件)：

2F064AA09 , 2F064EE01 , 2F064EE10 , 2F064FF03 , 2F064FF07 , 2F064FF08 , 2F064GG22 , 2F064GG23 , 2F064GG32 , 2F064GG38 , 2F064GG39 , 2F064GG42 , 2F064GG44 , 2F064GG47 , 2F064HH03 , 2F064HH08 , 2F064JJ01 , 2F064JJ15 , 2F065AA53 , 2F065EE00 , 2F065FF04 , 2F065FF51 , 2F065FF52 , 2F065GG02 , 2F065GG03 , 2F065GG07 , 2F065GG24 , 2F065GG25 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065LL04 , 2F065LL10 , 2F065LL23 , 2F065LL30 , 2F065LL32 , 2F065LL35 , 2F065LL36 , 2F065LL37 , 2F065LL46 , 2F065QQ16 , 2F065QQ31 , 2F065UU05

引用特許：

審査官引用 (5件)

磁気ヘッド浮上量測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-274769 出願人：日立電子エンジニアリング株式会社
膜厚測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-232971 出願人：オムロン株式会社
特開平4-313006

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