特許

J-GLOBAL ID：201003059002350271

放射能除染方法および放射能除染装置

発明者： 小田嶋 正見 ,  矢板 由美 ,  八尋 由樹 ,  金田 雅之 ,  穐村 仁美 ,  閏間 裕 ,  稲見 一郎
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (5件)： 波多野 久 ,  関口 俊三 ,  猿渡 章雄 ,  河村 修 ,  山田 毅彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-266410
公開番号（公開出願番号）：特開2010-096582
出願日： 2008年10月15日
公開日（公表日）： 2010年04月30日
要約：

【課題】クロム皮膜層が極めて薄いとか全く存在しないといったニッケルフェライト主体の酸化皮膜であっても、これを良好に除去できる放射能除染方法および放射能除染装置を提供すること。【解決手段】本発明では、原子力発電プラントの一次冷却系を成す機器・配管の循環水接触面で生成し放射性核種を含む酸化皮膜を除去することにより、その機器・配管から放射能を取り除く放射能除染装置において、酸化皮膜に沈着すると酸化皮膜が機器・配管から除去されやすくなる薬剤を、一次冷却系に注入する薬剤注入装置(例えば、クロム注入装置1)を備えるようにした。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

原子力発電プラントの一次冷却系を成す機器・配管の循環水接触面で生成し放射性核種を含む酸化皮膜を除去することにより、その機器・配管から放射能を取り除く放射能除染方法において、 前記酸化皮膜を溶解させて除去する化学除染工程と、 前記化学除染工程の前処理として、酸化皮膜を物理的に剥離し易くなるように性状変化させる酸化皮膜改質工程と、 を備えることを特徴とする放射能除染方法。

IPC (1件)：

G21F 9/28

FI (2件)：

G21F9/28 525Z ,  G21F9/28 525D

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭55-135800号公報
  
• 泡除染および除染廃液処理の方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-323356   出願人：日揮株式会社
• 特開昭60-235099号公報