感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：高松猛 , 矢澤清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-049872
公開番号（公開出願番号）：特開2010-250290
出願日： 2010年03月05日
公開日（公表日）： 2010年11月04日
要約：

【課題】超微細領域での、特に、電子線、X線又はEUV光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガスの問題が充分に低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【解決手段】活性光線又は放射線照射により側鎖に酸アニオンを生じるイオン性構造部位を有する繰り返し単位(A)を有する樹脂(P)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記イオン性構造部位のカチオン部位が、酸分解性基又はアルカリ分解性基を有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

活性光線又は放射線照射により側鎖に酸アニオンを生じるイオン性構造部位を有する繰り返し単位(A)を有する樹脂(P)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記イオン性構造部位のカチオン部位が、酸分解性基又はアルカリ分解性基を有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , C08F 212/14 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 503A , C08F212/14 , H01L21/30 502R

Fターム (60件)：

2H125AF18P , 2H125AF20P , 2H125AF27P , 2H125AF34P , 2H125AF38P , 2H125AF70P , 2H125AH04 , 2H125AH05 , 2H125AH11 , 2H125AH12 , 2H125AH13 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH29 , 2H125AJ04X , 2H125AJ04Y , 2H125AJ14Y , 2H125AJ42X , 2H125AJ48X , 2H125AJ48Y , 2H125AJ63Y , 2H125AJ64X , 2H125AJ64Y , 2H125AM86P , 2H125AM99P , 2H125AN08P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN57P , 2H125AN67P , 2H125AN86P , 2H125BA01P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125BA33P , 2H125CA12 , 2H125CB12 , 2H125CB16 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AB07R , 4J100AB10R , 4J100AL03Q , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA02Q , 4J100BA03P , 4J100BA15R , 4J100BA56R , 4J100BA58R , 4J100BB12R , 4J100BC03Q , 4J100BC04Q , 4J100BC09Q , 4J100BC43Q , 4J100FA19 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (1件)

重合性アニオンを有するスルホニウム塩及び高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-273766 出願人：信越化学工業株式会社

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