ポリ擬ロタキサンの製造方法、架橋体の製造方法及びポリマーの回収方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (4件)：杉村憲司 , 来間清志 , 澤田達也 , 冨田和幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-060235
公開番号（公開出願番号）：特開2010-209301
出願日： 2009年03月12日
公開日（公表日）： 2010年09月24日
要約：

【課題】原料ポリマーを容易に回収することが可能なポリ擬ロタキサンの製造方法及び該原料ポリマーの回収方法を提供する。【解決手段】環状構造を複数有するポリマーに、次式(I):(R1-R2-N+H2-R3-X)・Y-(式中、R1は前記ポリマーの環状構造の空洞部よりも嵩高い基であり、R2及びR3はそれぞれ独立して二価の炭化水素基、二価の芳香族基又はそれらを複合してなる原子団であって、ヘテロ原子を含んでもよく、Xは水酸基、一級アンモニウム塩又はカルボキシル基であり、Y-は一価の陰イオンである)で表されるアンモニウム塩を該アンモニウム塩のX側から貫通させることを特徴とするポリ擬ロタキサンの製造方法である。また、該方法によって得たポリ擬ロタキサンからなる架橋体を脱架橋させることを特徴とするポリマーの回収方法である。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

環状構造を複数有するポリマーに、下記式(I): (R1-R2-N+H2-R3-X)・Y- ・・・ (I) (式中、R1は最安定配座で上記ポリマー中の環状構造の空洞部よりも嵩高い基であり、R2及びR3はそれぞれ独立して二価の炭化水素基、二価の芳香族基又はそれらを複合してなる原子団であって、ヘテロ原子を含んでもよく、Xは水酸基、一級アンモニウム塩又はカルボキシル基であり、Y-は一価の陰イオンである)で表されるアンモニウム塩を該アンモニウム塩のX側から貫通させることを特徴とするポリ擬ロタキサンの製造方法。

IPC (6件)：

C08L 67/02 , C08G 85/00 , C08G 63/672 , C08G 18/65 , C08L 75/04 , C08K 5/17

FI (6件)：

C08L67/02 , C08G85/00 , C08G63/672 , C08G18/65 D , C08L75/04 , C08K5/17

Fターム (60件)：

4J002CF031 , 4J002CF061 , 4J002CF101 , 4J002CK021 , 4J002DH006 , 4J002EN006 , 4J002EP026 , 4J029AA03 , 4J029AB04 , 4J029AC01 , 4J029AC03 , 4J029AD10 , 4J029BF17 , 4J029BF23 , 4J029CA06 , 4J029CB06A , 4J029HA01 , 4J029HB05 , 4J029JC231 , 4J029JE022 , 4J029JE182 , 4J029KH01 , 4J029KH08 , 4J031BA07 , 4J031BA09 , 4J031BA11 , 4J031BA28 , 4J031BA29 , 4J031BB01 , 4J031BB02 , 4J031BB03 , 4J031BC17 , 4J031BC19 , 4J031CA37 , 4J031CD01 , 4J034BA08 , 4J034CA04 , 4J034CC37 , 4J034CC46 , 4J034CC54 , 4J034CC62 , 4J034CC65 , 4J034DA01 , 4J034DB04 , 4J034DB07 , 4J034DC50 , 4J034DG06 , 4J034DG08 , 4J034HA01 , 4J034HA07 , 4J034HC12 , 4J034HC64 , 4J034HC67 , 4J034HC71 , 4J034JA02 , 4J034KC17 , 4J034KD02 , 4J034LA01 , 4J034LA32 , 4J034LA36

引用特許：

審査官引用 (3件)

架橋体及びその製造方法、並びにそのリサイクル方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-209380 出願人：株式会社ブリヂストン
輪成分を複数有するロタキサン、その製造方法、およびそれからなる架橋剤
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-210336 出願人：国立大学法人東京工業大学
ポリ〔3〕ロタキサンおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-266237 出願人：ジェイエスアール株式会社

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