特許
J-GLOBAL ID：201003065140469603
感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-098921
公開番号（公開出願番号）：特開2010-250052
出願日： 2009年04月15日
公開日（公表日）： 2010年11月04日
要約：
【課題】 保護フィルムで被覆した感光性エレメントを長期間放置しておくことによる感度の低下変化が少なく、直接描画露光でも高感度である感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法を提供する。【解決手段】 (a)支持体と、(b)該支持体上に形成された感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層と、(c)ポリエチレンフィルムと、が順に積層されてなる感光性エレメントであって、前記感光性樹脂組成物が、(A)バインダーポリマー、(B)エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する光重合性化合物及び(C)アクリジン化合物を含有し、前記(c)ポリエチレンフィルムに含まれる酸化防止剤量が200〜1500質量ppmである感光性エレメント。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(a)支持体と、(b)該支持体上に形成された感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層と、(c)ポリエチレンフィルムと、が順に積層されてなる感光性エレメントであって、前記感光性樹脂組成物が、(A)バインダーポリマー、(B)エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する光重合性化合物及び(C)アクリジン化合物を含有し、前記(c)ポリエチレンフィルムに含まれる酸化防止剤量が200〜1500質量ppmである感光性エレメント。
IPC (5件)：
G03F 7/11
, G03F 7/004
, G03F 7/027
, G03F 7/031
, H05K 3/00
G03F7/11 501
, G03F7/004 512
, G03F7/027 502
, G03F7/031
, H05K3/00 F
, G03F7/004 501
2H125AC21
, 2H125AC34
, 2H125AD13
, 2H125AD20
, 2H125AD24
, 2H125AM13P
, 2H125AM23P
, 2H125AM32P
, 2H125AN03P
, 2H125AN82P
, 2H125BA02P
, 2H125BA17P
, 2H125BA18P
, 2H125BA38P
, 2H125CA13
, 2H125CB03
, 2H125CB05
, 2H125CC01
, 2H125CC13
