成膜装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-222738
公開番号（公開出願番号）：特開2010-056472
出願日： 2008年08月29日
公開日（公表日）： 2010年03月11日
要約：

【課題】基板の表面に複数の反応ガスを順番に供給して積層された反応生成物の薄膜を形成するにあたり、基板上で複数の反応ガスが混合されることを防止しつつ、プロセスに応じて処理領域の大きさなどを変更することの可能な成膜装置を提供する。【解決手段】真空容器12内の回転テーブル2の回転方向において第1の反応ガス供給手段31と第2の反応ガス供給手段32との間に設けられた分離領域D及び真空容器12の中心部の中心部領域Cから処理領域側に分離ガスが流れるための狭隘な空間を回転テーブルとの間に形成するための天井面を設けることで分離領域Dに反応ガスが侵入することを阻止すると共に、回転テーブル2の周縁と真空容器12の内周壁との間における前記反応ガスの侵入を阻止するために真空容器の内周壁から突出すると共に当該真空容器12に対して交換可能に設けられた突出壁部121を備えている。【選択図】図10

請求項（抜粋）：

真空容器内にて互いに反応する少なくとも2種類の反応ガスを順番に基板の表面に供給し、且つこの供給サイクルを実行することにより反応生成物の層を多数積層して薄膜を形成する成膜装置において、この回転テーブルの回転方向に互いに離れて設けられ、前記回転テーブルにおける基板の載置領域側の面に夫々第1の反応ガス及び第2の反応ガスを供給するための第1の反応ガス供給手段及び第2の反応ガス供給手段と、前記第1の反応ガスが供給される第1の処理領域と第2の反応ガスが供給される第2の処理領域との雰囲気を分離するために前記回転方向においてこれら処理領域の間に位置する分離領域と、前記第1の処理領域と第2の処理領域との雰囲気を分離するために真空容器内の中心部に位置し、回転テーブルの基板載置面側に分離ガスを吐出する吐出孔が形成された中心部領域と、前記分離領域の両側に拡散する分離ガス及び前記中心部領域から吐出する分離ガスと共に前記反応ガスの排気を行うために、平面で見たときに当該分離領域の前記回転方向両側に位置する第1の排気口及び第2の排気口と、を備え、前記分離領域は、分離ガスを供給するための分離ガス供給手段と、この分離ガス供給手段の前記回転方向両側に位置し、当該分離領域から処理領域側に分離ガスが流れるための狭隘な空間を回転テーブルとの間に形成するための天井面と、前記回転テーブルの周縁と真空容器の内周壁との間における前記反応ガスの侵入を阻止するために真空容器の内周壁から回転テーブル側に突出すると共に当該真空容器に対して交換可能に設けられ、その周方向の長さ及び周方向の取り付け位置の少なくとも一方がプロセスに応じて設定された突出壁部と、を備えることを特徴とする成膜装置。

IPC (4件)：

H01L 21/31 , C23C 16/455 , C23C 16/46 , C23C 16/44

FI (4件)：

H01L21/31 B , C23C16/455 , C23C16/46 , C23C16/44 F

Fターム (33件)：

4K030AA06 , 4K030AA11 , 4K030AA14 , 4K030AA18 , 4K030BA44 , 4K030BB12 , 4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030EA03 , 4K030EA06 , 4K030EA11 , 4K030GA06 , 4K030GA12 , 4K030KA12 , 4K030KA23 , 5F045AA04 , 5F045AA06 , 5F045AB31 , 5F045AB32 , 5F045AC05 , 5F045AC07 , 5F045AC08 , 5F045AD07 , 5F045AE23 , 5F045AF01 , 5F045BB08 , 5F045DP15 , 5F045DP27 , 5F045DQ10 , 5F045EE19 , 5F045EF08 , 5F045EK07 , 5F045EM10

引用特許：

出願人引用 (8件)

米国特許公報7,153,542号:図6(a)、図6(b)
成膜装置および成膜方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-000183 出願人：東京エレクトロン株式会社
特許3144664号公報:図1、図2、請求項1

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