光断層画像撮像装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長尾達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-052879
公開番号（公開出願番号）：特開2010-201102
出願日： 2009年03月06日
公開日（公表日）： 2010年09月16日
要約：

【課題】横分解能が高いOCTシステムにより断層画像を撮像するに際し、被検査物の動きによる画像のブレをより一層軽減することが可能となる光断層画像撮像装置を提供する。【解決手段】OCTシステムにより、被検査物の断層画像を撮像する光断層画像撮像装置であって、スポット径の大きい第1の照射ビームと、スポット径の小さい第2の照射ビームとを、被検査物上に同期してスキャンさせる手段と、スキャンさせる手段によって前記第1及び第2の照射ビームをスキャンし、第1の照射ビームによる第1画像情報と前記第2の照射ビームによる第2画像情報を取得する画像情報取得手段と、予め取得された基準画像情報を基にして、第1画像情報の位置を特定し、第1画像情報と第2画像情報との位置関係の相関により、前記特定された前記第1画像情報の位置に対応させ、前記第2画像情報の位置を補正する画像情報の位置補正手段と、を有する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

光源から出射され、少なくとも小ビーム径の第1ビームと大ビーム径の第2ビームとによる複数のビーム径からなる光を、測定光と参照光とに更に分割して用いるOCTシステムを備え、該OCTシステムにより、被検査物の断層画像を撮像する光断層画像撮像装置であって、前記第1ビームによるスポット径の大きい第1の照射ビームと、前記第2ビームによるスポット径の小さい第2の照射ビームとを、前記被検査物上に同期してスキャンさせる手段と、前記スキャンさせる手段によって、前記第1及び第2の照射ビームをスキャンし、前記第1の照射ビームによる第1画像情報と前記第2の照射ビームによる第2画像情報を取得する画像情報取得手段と、予め取得された基準画像情報を基にして、前記第1画像情報の位置を特定し、前記同期してスキャンされたことによる前記第1画像情報と前記第2画像情報との位置関係の相関により、前記特定された前記第1画像情報の位置に対応させ、前記第2画像情報の位置を補正する画像情報の位置補正手段と、を有することを特徴とする光断層画像撮像装置。

IPC (4件)：

A61B 3/12 , G01N 21/17 , A61B 10/00 , A61B 3/10

FI (4件)：

A61B3/12 E , G01N21/17 620 , A61B10/00 E , A61B3/10 R

Fターム (19件)：

2G059AA05 , 2G059BB12 , 2G059EE02 , 2G059EE09 , 2G059EE12 , 2G059EE17 , 2G059FF02 , 2G059GG02 , 2G059HH01 , 2G059HH06 , 2G059JJ05 , 2G059JJ11 , 2G059JJ13 , 2G059JJ15 , 2G059JJ22 , 2G059KK04 , 2G059LL01 , 2G059MM01 , 2G059MM09

引用特許：

審査官引用 (1件)

光干渉断層計を用いた画像形成方法、及び光干渉断層装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-066055 出願人：キヤノン株式会社

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