特許
J-GLOBAL ID：201003070033661643

光画像計測装置

発明者：
林 健史

林 健史 について

, 
清水 仁

清水 仁 について


出願人/特許権者：
株式会社トプコン

株式会社トプコン について


代理人 (2件)： 特許業務法人三澤特許事務所 ,  三澤 正義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-160548
公開番号（公開出願番号）：特開2010-000191
出願日： 2008年06月19日
公開日（公表日）： 2010年01月07日
要約：
【課題】被測定物体の異なる部位を描写する複数のOCT画像を基に被測定物体の物理量を高い確度で計測可能な技術を提供する。【解決手段】光画像計測装置1は、低コヒーレンス光L0を信号光LSと参照光LRとに分割し、参照光LRの光路を光路長の異なる二つの光路に分割することで参照光LRを二つの参照光LRa、LRbに分割する。更に、光画像計測装置1は、これら二つの光路をそれぞれ経由した参照光LRa、LRbと被検眼Eを経由した信号光LSとを干渉させて、被検眼Eの二つの深度位置(眼底Ef、角膜Ec)のそれぞれにおける形態を反映した干渉光LCを生成し、この干渉光LCを検出して検出信号を生成する。そして、光画像計測装置1は、この検出信号に基づいて眼底断層画像と角膜断層画像を形成し、これら断層画像を解析して被検眼Eの角膜網膜間距離を求める。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
低コヒーレンス光を信号光と参照光とに分割し、前記参照光の光路を光路長の異なる複数の光路に分割することで前記参照光を複数の参照光に分割し、前記複数の光路をそれぞれ経由した前記複数の参照光と被測定物体を経由した前記信号光とを干渉させて、前記被測定物体の複数の深度位置のそれぞれにおける形態を反映した干渉光を生成する光学系と、 前記生成された干渉光を検出して検出信号を生成する検出手段と、 前記生成された検出信号に基づいて、前記複数の深度位置における前記被測定物体の形態を表す複数の断層画像をそれぞれ形成する画像形成手段と、 前記複数の断層画像を解析して前記被測定物体の所定の物理量を求める解析手段と、 を備えることを特徴とする光画像計測装置。
IPC (6件)：
A61B 3/10 ,  G01N 21/17 ,  A61B 3/12 ,  A61B 3/14 ,  G01B 11/24 ,  G01B 9/02
FI (7件)：
A61B3/10 Z ,  G01N21/17 630 ,  A61B3/10 H ,  A61B3/12 E ,  A61B3/14 F ,  G01B11/24 D ,  G01B9/02
Fターム (45件)：
2F064AA01 ,  2F064AA09 ,  2F064EE01 ,  2F064EE04 ,  2F064FF00 ,  2F064GG03 ,  2F064GG12 ,  2F064GG22 ,  2F064GG44 ,  2F064GG49 ,  2F064GG52 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ01 ,  2F065AA46 ,  2F065AA52 ,  2F065AA53 ,  2F065CC16 ,  2F065FF04 ,  2F065FF52 ,  2F065GG07 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL02 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065LL24 ,  2F065LL42 ,  2F065LL67 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ31 ,  2F065SS13 ,  2G059AA06 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE11 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059HH02 ,  2G059JJ07 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ17 ,  2G059KK04
引用特許：
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (1件)

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