特許
J-GLOBAL ID：201003071932127416

光構造解析装置及びその構造情報処理方法

発明者：
寺村 友一

寺村 友一 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-017081
公開番号（公開出願番号）：特開2010-172425
出願日： 2009年01月28日
公開日（公表日）： 2010年08月12日
要約：
【課題】層構造、特に閉曲線層構造を容易かつ正確に抽出する。【解決手段】信号処理部93は、断層構造画像生成部930と、記憶手段としての画像記憶部931、ノイズ処理部932、Aライン群設定部933、Bライン群設定部934、信号強度抽出部935、変化量比較部936、マーキング部937、ライン補間部938、閉曲線層構造抽出部939、図形比較部940、パターン記憶部941、構造異常判定部942、レンダリング部943を備えて構成される。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
広帯域な波長を発光する光源手段と、 前記光源手段から発した光を参照光と測定光に分波する分波手段と、 層構造を有する測定対象に前記測定光を照射する照射手段と、 前記測定対象に前記測定光を照射する位置を線状に走査する線状走査手段と、 前記測定対象から前記測定光に基づき反射あるいは後方散乱した戻り光を集光する集光手段と、 前記戻り光と前記参照光を合波させ干渉光を取得する干渉手段と、 前記干渉光を受光して干渉信号を抽出する受光手段と、 前記干渉信号および前記線状走査部の走査情報から前記測定対象の断層構造画像を生成する断層構造画像生成手段と、 前記断層構造画像を構成する画素の信号強度を抽出するための複数の第1の抽出ラインからなる第1の抽出ライン群を設定する第1ライン群設定手段と、 前記信号強度を前記第1の抽出ラインの方向とは異なる方向に沿って抽出するための複数の第2の抽出ラインからなる第2の抽出ライン群を設定する第2ライン群設定手段と、 前記第1の抽出ライン群及び前記第2の抽出ライン群に沿って前記信号強度を抽出する信号強度抽出手段と、 を備えたことを特徴とする光構造解析装置。
IPC (2件)：
A61B 1/00 ,  G01N 21/17
FI (2件)：
A61B1/00 300D ,  G01N21/17 625
Fターム (19件)：
2G059AA05 ,  2G059AA06 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE11 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK01 ,  2G059MM01 ,  2G059MM10 ,  2G059PP02 ,  4C061BB08 ,  4C061CC04 ,  4C061HH51
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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