特許
J-GLOBAL ID：201003072113097873
光合成基板、その製造方法、光合成反応法および光合成装置
発明者：
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
,
,
代理人 (4件)：
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 永坂 友康
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-029100
公開番号（公開出願番号）：特開2010-063453
出願日： 2009年02月10日
公開日（公表日）： 2010年03月25日
要約：
【課題】高い反応効率の光反応を可能とし得る光合成基板、その製造方法、高い反応効率の光反応を可能とし得る光合成反応法、また高い反応効率の光反応を可能とし得る光合成装置を提供する。【解決手段】基材の少なくとも表面に電子伝達体、光増感色素分子および酵素を固定してなる光合成基板、光合成基板の製造方法、反応原料溶液を前記の光合成基板に接触させる光合成反応法、および反応原料溶液が流れる流路内面を前記の光合成基板として使用してなる光合成装置。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
基材の少なくとも表面に電子伝達体、光増感色素分子および酵素を固定してなる光合成基板。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
引用文献：
前のページに戻る
