特許
J-GLOBAL ID:201003072759224423
三層構造物のパターニング・アプリケーションのための組成物、コーティング、及びフィルム、並びに、これらの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
小野 新次郎
, 社本 一夫
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 相馬 貴昌
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-551053
公開番号(公開出願番号):特表2010-519596
出願日: 2008年02月23日
公開日(公表日): 2010年06月03日
要約:
本明細書中には三層アプリケーションにおいて使用するための組成物が開示されており、ここで前記組成物は、マトリックスを有しており、そしてポリマーのマトリックスを形成する少なくとも1つのタイプのシリコン系部分、ポリマーのマトリックスに結合した複数のビニル基、及びポリマーのマトリックスに結合した複数のフェニル基を含むポリマー配合物;少なくとも1種の縮合触媒;並びに、少なくとも1種の溶媒;を含む。本明細書中には、さらに、有機基層(第1の層)、反射防止組成物及び/又は本発明にて意図するフィルム(第2の層)、並びに、互いに結合したフォトレジスト材料(第3の層)を含む三層構造物も意図されている。三層パターニング・アプリケーションのための組成物を製造する方法は、ポリマーのマトリックスを形成する少なくとも1つのタイプのシリコン系部分、ポリマーのマトリックスに結合した複数のビニル基、及びポリマーのマトリックスに結合した複数のフェニル基を含むポリマー配合物を供給すること;少なくとも1種の縮合触媒を供給すること;少なくとも1種の溶媒を供給すること;少なくとも1種のpH調整剤を供給すること;前記ポリマー配合物と前記少なくとも1種の溶媒の一部とを反応器中で混合して、反応性混合物を生成させること;並びに、前記少なくとも1種のpH調整剤、前記少なくとも1種の縮合触媒、及び前記少なくとも1種の溶媒の残部を反応混合物中に加えて、組成物を得ること;を含む。【選択図】図1
請求項(抜粋):
三層アプリケーションにおいて使用するための組成物であって、該組成物が、マトリックスを有し、且つ、
ポリマー配合物、ここで、該配合物は、該ポリマーのマトリックスを形成する少なくとも1つのタイプのシリコン系部分、該ポリマーのマトリックスに結合した複数のビニル基、及び該ポリマーのマトリックスに結合した複数のフェニル基を含む;
少なくとも1種の縮合触媒;並びに、
少なくとも1種の溶媒;
を含むことを特徴とする、前記組成物。
IPC (2件):
FI (2件):
G03F7/11 502
, G03F7/26 511
Fターム (27件):
2H096AA25
, 2H096BA11
, 2H096CA06
, 2H096EA03
, 2H096EA05
, 2H096EA23
, 2H096FA01
, 2H096GA08
, 2H096HA23
, 2H096JA02
, 2H096JA04
, 2H096KA07
, 2H096KA18
, 2H125AC10
, 2H125AC78
, 2H125AC79
, 2H125AM80N
, 2H125AM85N
, 2H125AN13N
, 2H125AN39N
, 2H125BA01N
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125DA22
, 2H125DA23
引用特許: