特許
J-GLOBAL ID：201003075869821663

熱交換型反応器を用いた反応方法

発明者：
矢田 修平

矢田 修平 について

, 
神野 公克

神野 公克 について

, 
磯谷 真治

磯谷 真治 について


出願人/特許権者：
三菱化学株式会社

三菱化学株式会社 について

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三菱化学エンジニアリング株式会社

三菱化学エンジニアリング株式会社 について


代理人 (5件)： 川口 嘉之 ,  松倉 秀実 ,  遠山 勉 ,  佐貫 伸一 ,  丹羽 武司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-227008
公開番号（公開出願番号）：特開2010-149105
出願日： 2009年09月30日
公開日（公表日）： 2010年07月08日
要約：
【課題】効率よく生成物を生成させるために、多量の原料ガスを反応器に流入させても、反応器の差圧の上昇を抑制することができ、生成物の収率の低下を招かないような反応方法を提供する。【解決手段】供給された原料ガスを反応させる触媒層を備え、その触媒層と熱交換を行い除熱及び加熱ができる反応器において、 触媒層を備えない状態において、常温の空気を、反応器出口圧力を常圧とし熱媒による加熱なしで、触媒層容積あたり標準状態換算で空間速度を7,200(1/hr)として前記反応器に流入させた場合の前記反応器の差圧が50Pa以下であり、 前記触媒層が、原料ガスの入口から出口に向かって複数の反応帯域に分割され、前記複数の反応帯域は原料ガスの入口から出口に向かって触媒充填時の空隙率を減少させるように配置されている反応器を用いる反応方法により課題を解決する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
供給された原料ガスを反応させる触媒層を備え、その触媒層と熱交換を行い除熱及び加熱ができる反応器において、 触媒層を備えない状態において、常温の空気を、反応器出口圧力を常圧とし熱媒による加熱なしで、触媒層容積あたり標準状態換算で空間速度を7,200(1/hr)として前記反応器に流入させた場合の前記反応器の差圧が50Pa以下であり、 前記触媒層が、原料ガスの入口から出口に向かって複数の反応帯域に分割され、前記複数の反応帯域は原料ガスの入口から出口に向かって触媒充填時の空隙率を減少させるように配置されている反応器を用いる反応方法。
IPC (3件)：
B01J 8/02 ,  C07C 27/00 ,  B01J 23/88
FI (4件)：
B01J8/02 E ,  B01J8/02 A ,  C07C27/00 330 ,  B01J23/88 Z
Fターム (49件)：
4G070AA01 ,  4G070AB04 ,  4G070BA02 ,  4G070BB06 ,  4G070CA25 ,  4G070CB02 ,  4G070CB17 ,  4G070CC06 ,  4G070CC11 ,  4G070DA21 ,  4G169AA02 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA02B ,  4G169BB06B ,  4G169BC02B ,  4G169BC03B ,  4G169BC25B ,  4G169BC59B ,  4G169BC66B ,  4G169BC67B ,  4G169BC68B ,  4G169BD03B ,  4G169CB10 ,  4G169CB17 ,  4G169CB72 ,  4G169CB74 ,  4G169DA06 ,  4G169EA02Y ,  4G169EC21X ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FB64 ,  4H006AA02 ,  4H006AC45 ,  4H006AC46 ,  4H006BA02 ,  4H006BA13 ,  4H006BA14 ,  4H006BA19 ,  4H006BA20 ,  4H006BA21 ,  4H006BA30 ,  4H006BA31 ,  4H006BA33 ,  4H006BD21 ,  4H039CA62 ,  4H039CA65 ,  4H039CC30
引用特許：
審査官引用 (5件)
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